公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

掩膜（MASK）：全稱單片機掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機生產(chǎn)的過程中把程序做進去。優(yōu)點是：程序可靠、成本低。缺點：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產(chǎn)，供貨周期長。

應用于芯片制造的光掩膜為高敏感度的鉻版。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應用于芯片制造。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。

如需要烤版，烤版時要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。如用固體桃膠配制，一定要用熱水溶膠，膠要徹底溶開、過濾再用。②把適量的烤版膠涂在版面上，用海綿將版面涂擦均勻。③烤版膠不能用干布擦拭。凹版網(wǎng)點由于制版方式的不同，版輥上所反映的網(wǎng)點也有所差別：電雕雕刻網(wǎng)點隨著網(wǎng)成的變化，網(wǎng)點的大小和深度也跟隨著變化。④版材在烘版箱中烘烤，圖像區(qū)域會均勻變色。不同的PS版，烘烤時間、溫度及終顏色會不一致，所以需通過試驗確定烤版條件。

接觸光刻技術中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術中使用的掩模具有表面特征圖案的實際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過光學系統(tǒng)投影模式曝光i光明。在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對掩膜版進行清洗。