鋼研納克電感耦合等離子體質(zhì)譜儀PlasmaMS 300 儀器特點(diǎn)

1. 石英、耐氫1氟酸等豐富多樣的進(jìn)樣系統(tǒng)；分立式矩管，便于拆卸維護(hù)；可選配半導(dǎo)體制冷進(jìn)樣裝置和自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)。

2. 27.12MHz全固態(tài)RF發(fā)生器，實(shí)現(xiàn)極高的穩(wěn)定性；自動(dòng)匹配速度快，保證了點(diǎn)火成功率

3. 雙錐接口，可在真空狀態(tài)下直接拆卸維護(hù)

4. 大范圍準(zhǔn)確可調(diào)的三維平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)矩管全自動(dòng)定位和校準(zhǔn)

5. 雙離軸離子傳輸（偏轉(zhuǎn)）系統(tǒng)，去除不帶電粒子，保證低噪聲和高靈敏度

6. He氣碰撞池匹配性能高質(zhì)量流量控制器，有效去除多離子干擾

7. 高通量的長(zhǎng)四極桿，質(zhì)量范圍2-265amu，分辨率<0.8amu；應(yīng)用的DDS技術(shù)，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)頻率匹配，保證離子有效篩選

8. 雙模式檢測(cè)器，脈沖計(jì)數(shù)和模擬計(jì)數(shù)檢測(cè)，高達(dá)9個(gè)數(shù)量級(jí)線性范圍

9.兩只獨(dú)立分子泵組合而成的性能高雙渦輪分子泵真空系統(tǒng)和全自動(dòng)監(jiān)控系統(tǒng)，確保穩(wěn)定性和靈敏度

10. 無(wú)處不在的屏蔽處理，保護(hù)實(shí)驗(yàn)人員安全和儀器穩(wěn)定

11. 通過(guò)多項(xiàng)可靠性實(shí)驗(yàn)的考驗(yàn)，保證儀器運(yùn)行和穩(wěn)定

12. 人性化的工作軟件

PlasmaMS 300 鋼研納克

中文軟件界面，符合中國(guó)人操作習(xí)慣，用戶靈活保存檢測(cè)方法

全方面的狀態(tài)監(jiān)控輸出，錯(cuò)誤主動(dòng)提示，問(wèn)題一目了然，極大方便日常維護(hù)

帶有LIMS接口，滿足第三方實(shí)驗(yàn)室的需求

鋼研納克國(guó)產(chǎn)ICP-MS PlasmaMS 300

 優(yōu)勢(shì)1——的四極桿電源驅(qū)動(dòng)技術(shù)

DDS變頻技術(shù)

自動(dòng)頻率匹配調(diào)諧，無(wú)需手動(dòng)調(diào)電容，更安全

沒(méi)有機(jī)械電容部件，擁有的穩(wěn)定性、抗震動(dòng)，無(wú)需經(jīng)常校準(zhǔn)質(zhì)量軸

專利：《 一種用于四級(jí)桿質(zhì)譜儀的射頻電源》201610006009.2

PlasmaMS 300 優(yōu)勢(shì)2——的真空控制系統(tǒng)

先進(jìn)的緩沖技術(shù)，機(jī)械泵間斷運(yùn)行，儀器待機(jī)功耗極低

解決高真空腔體被機(jī)械泵油氣污染問(wèn)題，保證儀器長(zhǎng)時(shí)間性能穩(wěn)定

受專利保護(hù)《一種電磁閥緩沖、無(wú)返油渦輪分子泵抽真空系統(tǒng)》ZL2017 20926451.7

電感耦合等離子體質(zhì)譜法測(cè)定化妝品中的37種元素

立電感耦合等離子體質(zhì)譜法測(cè)定化妝品中37種元素的檢測(cè)方法，根據(jù)化妝品不同基質(zhì)，選用-微波消解體系或-濕法消解體系，采用在線內(nèi)標(biāo)及碰撞反應(yīng)池技術(shù)校正機(jī)體效應(yīng)，外標(biāo)法

定量進(jìn)行ICP-MS測(cè)定。方法檢出限1 ~ 80瞄/kg，線性相關(guān)系數(shù)均大于0.997, RSD為1.0% - 8.9%， 加標(biāo)回收率為81.3% ~ 115.2%。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，該方法簡(jiǎn)便、快速、靈敏度高、準(zhǔn)確性好，適用于化妝品中37種元素的同時(shí)測(cè)定。

鋼研納克國(guó)產(chǎn)ICP-MS具有多元素同時(shí)檢測(cè)的優(yōu)勢(shì)，靈敏度高、 線性范圍寬，既適用于樣品中痕量元素的檢測(cè)也能同時(shí)滿足微量元素的測(cè)定。ICP-MS分析中干擾問(wèn)題是影響分析 結(jié)果準(zhǔn)確度和精密度的障礙，其主要的干擾方式分為質(zhì)譜干擾、基體干擾和物理效應(yīng)干擾三大類。質(zhì)譜干擾

可通過(guò)選擇合適的同位素離子及儀器校正消除；物理干擾可通過(guò)清洗霧化室，進(jìn)樣錐及進(jìn)樣管路消除；基體干擾 是指復(fù)雜的基體引起的ICP平衡的轉(zhuǎn)變，對(duì)待側(cè)元素的質(zhì)譜信號(hào)產(chǎn)生抑制或增應(yīng)，可采用加入內(nèi)標(biāo)元素校正

和采用碰撞/反應(yīng)池技術(shù)消除。針對(duì)化妝品的不同劑型，應(yīng)用微波消解和濕法消解體系，建立了電感耦合等離子體 質(zhì)譜對(duì)8類化妝品中37種元素的測(cè)定方法，為化妝品中重金屬及其他有害元素的監(jiān)測(cè)提供了技術(shù)支持。

同位素及內(nèi)標(biāo)元素的選擇

選擇干擾小且豐度高的同位素。在ICP-MS分析過(guò)程中，分析信號(hào)會(huì)隨時(shí)間而發(fā)生漂移，而且化妝品樣品在分

析時(shí)的基體效應(yīng)明顯，被測(cè)物信號(hào)會(huì)出現(xiàn)抑制或增應(yīng)，使用內(nèi)標(biāo)元素，可以有效補(bǔ)償信號(hào)漂移和基體效應(yīng)。 內(nèi)標(biāo)元素應(yīng)選擇和目標(biāo)元素性質(zhì)相近、待側(cè)試樣不含有且不會(huì)對(duì)目標(biāo)元素測(cè)定產(chǎn)生干擾的元素，常用的內(nèi)標(biāo)元素

為自然界中很少存在的元素，如：銃、釔、銠、錮、錸等，在化妝品樣品測(cè)試過(guò)程中，發(fā)現(xiàn)樣品中經(jīng)常含有銃、 釔等元素，因此選用銠、錸為內(nèi)標(biāo)元素。在內(nèi)標(biāo)液配置過(guò)程中，可加入適量（濃度小于5%）等， 起基體匹配的作用，使待測(cè)結(jié)果更準(zhǔn)確。各待測(cè)同位素的選擇，分子離子的干擾情況和內(nèi)標(biāo)元素的選擇見(jiàn)表2。

本文建立的電感耦合等離子體質(zhì)譜法能滿足化妝品中37種元素定量檢測(cè)的各項(xiàng)技術(shù)要求，實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：方法具有簡(jiǎn)便、準(zhǔn)確、快速的特點(diǎn)，具有良好的精密度和回收率，適合于化妝品中多元素的同時(shí)測(cè)定。