鋼研納克雙向觀測(cè)Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長(zhǎng)期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1%

儀器規(guī)格

尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)

分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積：24μm x 24μm

工作環(huán)境

實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境：相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%

排  風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電  源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國(guó)產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時(shí)代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動(dòng)負(fù)載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測(cè)試，具有優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設(shè)計(jì)，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。

實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線，保障通訊可靠。

 

由鋼研納克承擔(dān)的國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開(kāi)發(fā)專項(xiàng)“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進(jìn)展。本專項(xiàng)開(kāi)發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目前二維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問(wèn)題，接近于商品水平的產(chǎn)品樣機(jī)將于年內(nèi)完成；ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機(jī)已成功組裝和調(diào)試，采集到正確的譜圖，這一突破標(biāo)志著在第二代樣機(jī)上采用的自主設(shè)計(jì)的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個(gè)關(guān)鍵、難點(diǎn)技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)原理攻克。為高質(zhì)量、按期完成項(xiàng)目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)任務(wù)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)委決定發(fā)布通知對(duì)2014年第二批擬立項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)目(見(jiàn)附件)公開(kāi)征求意見(jiàn)。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國(guó)家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門(mén)為中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)，歸口單位為國(guó)工業(yè)過(guò)程測(cè)量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會(huì)，起草單位為鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司，計(jì)劃完成時(shí)間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語(yǔ)與縮略語(yǔ)、分類(lèi)、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國(guó)ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過(guò)規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門(mén)檻，形成具有競(jìng)爭(zhēng)力的企業(yè)。從而縮小國(guó)產(chǎn)儀器同國(guó)外儀器的性能差距，提高國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀的市場(chǎng)占有率。對(duì)ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項(xiàng)目起草單位鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開(kāi)發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開(kāi)發(fā)專項(xiàng)”成果。