鋼研納克SparkCCD7000

高分辨率 CCD 檢測(cè)器

像素?cái)?shù)：3648 46 全行業(yè)較高

像素尺寸：8μm 全行業(yè)較小

精薄鍍膜，紫外波段檢出限更低，可做低含量 N

萬(wàn)級(jí)超凈環(huán)境下打造較優(yōu)光學(xué)系統(tǒng)

帕邢 - 龍格結(jié)構(gòu)羅蘭光學(xué)系統(tǒng)，無(wú)像差，分辨率均勻

高發(fā)光全息光柵，光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm，全行業(yè)較高

線分辨率 0.7407nm/mm

像素分辨率 0.005926nm

譜線范圍：130-800nm（可分析 N、Li、 Na、K 等元素）

智能控制系統(tǒng)，再啟動(dòng)耗時(shí)行業(yè)較低

潮汐式?jīng)_洗方式，冷機(jī)（關(guān)機(jī) 12 小時(shí)）啟動(dòng)只需 30min，熱機(jī)啟動(dòng)時(shí)間 5min

智能判斷分析間隔時(shí)間，合理補(bǔ)充氣，降低氣消耗

60ml/min 超低待機(jī)流量，一瓶氣 24 小時(shí)待機(jī) 70 天

分片式曝光，痕量元素識(shí)別強(qiáng)度大幅提高，檢出限更低

一次激發(fā)，分片曝光，同時(shí)采集，同時(shí)回?cái)?shù)

獨(dú)立控制不同 CCD 的積分曝光時(shí)間

提升痕量元素的強(qiáng)度，降低儀器的檢出限

隨波段調(diào)節(jié)積分時(shí)間，提升儀器的 穩(wěn)定性

1000型光電直讀光譜儀定位于產(chǎn)品，通過(guò)改進(jìn)光室材質(zhì)、第三元素干擾校正模型、恒溫系統(tǒng)設(shè)計(jì)等提高了儀器的可靠性、穩(wěn)定性。鋼研納克副總經(jīng)理陳吉文說(shuō)到，“近年來(lái)，鋼研納克光電直讀光譜儀的銷(xiāo)售業(yè)績(jī)一直保持著高于市場(chǎng)整體水平的增速，累計(jì)銷(xiāo)量已達(dá)到3000臺(tái)，處于國(guó)產(chǎn)光電直讀光譜儀市場(chǎng)地位。2014年鋼研納克的市場(chǎng)占有率高達(dá)30%-35%，即使與進(jìn)口品牌相比，占有率也是一。其中，1000型每年銷(xiāo)售臺(tái)數(shù)占公司的30%，百臺(tái)數(shù)量級(jí)?！?

直讀光譜儀

干擾效應(yīng)。    干擾效應(yīng)也稱基體效應(yīng)，又稱共存元素、第三元素或伴隨物效應(yīng)，指的是在樣品中除了分析物外所有其他成分的影響，在光譜分析中能引起譜線的強(qiáng)度變化，導(dǎo)致分析結(jié)果產(chǎn)生一些誤差，這種干擾效應(yīng)是光譜分析中需要高度重視的一個(gè)問(wèn)題。

分析試樣和標(biāo)樣影響。    在實(shí)際工作中，分析試樣和標(biāo)樣的冶煉過(guò)程和物理狀態(tài)存在一定的差異，所以導(dǎo)致校準(zhǔn)曲線經(jīng)常出現(xiàn)變化，一般情況下標(biāo)樣大多處于鍛造和軋制狀態(tài)，分析樣品大多處于澆鑄狀態(tài)，為有效防止試樣的冶金狀態(tài)變化影響檢測(cè)分析的結(jié)果，經(jīng)常使用的控制試樣要保證與分析試樣的冶金過(guò)程和物理狀態(tài)保持一致，對(duì)試樣的分析結(jié)果進(jìn)行準(zhǔn)確的控制。

直讀光譜儀取樣方法影響  

 取樣方法和對(duì)樣品的處理是光譜分析中影響分析精度和準(zhǔn)確度的重要而關(guān)鍵的因素。爐前分析時(shí)要對(duì)爐中鑄態(tài)的鋼樣采取快速紅切的方式進(jìn)行，如果檢測(cè)的樣品存在裂紋、雜質(zhì)和氣孔等問(wèn)題，要重新進(jìn)行取樣檢測(cè)。對(duì)于低碳鋼材料要將其置入流水中進(jìn)行驟降溫處理，確保樣品組織結(jié)構(gòu)形成馬氏體和奧氏體，從而有效提升碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。但要引起注意的是，對(duì)于高碳樣品進(jìn)行切割后，不能采取驟降溫的方式進(jìn)行處理，防止因?yàn)轶E降溫引發(fā)裂縫發(fā)生。另外，對(duì)于鑄鐵和球墨鑄鐵的檢測(cè)和分析，要確保所檢測(cè)的樣品進(jìn)行白口化，并確保取樣的溫度、脫模時(shí)間、冷卻速度標(biāo)準(zhǔn)和統(tǒng)一。另外不同材料的檢測(cè)分析，要選擇適合的研磨工具，通常使用氧化鋁砂輪片進(jìn)行打磨，要注意打磨的顆粒處于中等狀態(tài)，不能太粗或太細(xì)。需要強(qiáng)調(diào)的是，試樣樣品的表面要打磨掉0.5至1.5毫米，除去樣品表面的氧化層，防止檢測(cè)結(jié)果的不準(zhǔn)確，氧化層對(duì)碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性影響更大。