鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應(yīng)用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質(zhì)之選！

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鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀

2015年10月14日，中國分析測試協(xié)會(huì)組織在北京對(duì)鋼研納克檢測技術(shù)有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項(xiàng)成果進(jìn)行了鑒定。本次鑒定組成員包括：清華大學(xué)張新榮、中國分析測試協(xié)會(huì)張渝英、中國分析測試協(xié)會(huì)汪正范研究員、科學(xué)儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學(xué)、北京科技大學(xué)劉杰民。鋼研納克檢測技術(shù)有限公司賈云海總經(jīng)理、技術(shù)中心沈?qū)W靜、項(xiàng)目負(fù)責(zé)人及項(xiàng)目骨干出席本次鑒定會(huì)。

本次鑒定會(huì)由鑒定組組長張新榮主持，項(xiàng)目組向組成員詳細(xì)匯報(bào)了成果情況，組審議了成果研制報(bào)告、成果查新報(bào)告、檢驗(yàn)報(bào)告和用戶報(bào)告等項(xiàng)目鑒定資料，并觀看了儀器現(xiàn)場操作演示，進(jìn)行了質(zhì)詢。在此基礎(chǔ)上，們進(jìn)行了認(rèn)真討論，一致同意并通過了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。

鑒定結(jié)論如下：

“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術(shù)指標(biāo)達(dá)到：波長范圍：165~900nm；200nm處分辨率0.007nm；自主研發(fā)固態(tài)射頻發(fā)生器，功率范圍800W~1600W，連續(xù)1瓦可調(diào)，功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%，具有自動(dòng)匹配調(diào)諧功能；軟件一鍵點(diǎn)火，電路具有全自動(dòng)保護(hù)功能；具有儀器參數(shù)自動(dòng)優(yōu)化功能；具有激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)接口，可配備有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)、高鹽和耐進(jìn)樣系統(tǒng)，可使用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)直接測試油品。具有（1）成功攻克了固態(tài)射頻發(fā)生器、高分辨二維全譜光譜系統(tǒng)等關(guān)鍵技術(shù)；（2）自主研發(fā)的高分辨率二維分光系統(tǒng)，無需切換光路，一次曝光即可獲取全部譜線數(shù)據(jù)；（3）建立了多種樣品分析的方法數(shù)據(jù)庫等點(diǎn)。該儀器技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國內(nèi)同類產(chǎn)品水平，已實(shí)現(xiàn)銷售，具有良好市場前景。

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES國家標(biāo)準(zhǔn)

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標(biāo)準(zhǔn)

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，國家標(biāo)準(zhǔn)委決定發(fā)布通知對(duì)2014年第二批擬立項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會(huì)，起草單位為鋼研納克檢測技術(shù)有限公司，計(jì)劃完成時(shí)間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語與縮略語、分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距，提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對(duì)ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項(xiàng)目起草單位鋼研納克檢測技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測器實(shí)現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”成果。