ICP光譜儀

目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型，其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術(shù)水平，它們以光電倍增管為檢測器，技術(shù)上非常成熟，但也較落后，其中多道型已幾乎退出歷史舞臺，單道掃描型以其合適的價格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當今ICP的新技術(shù)水準，它以CID或CCD(SCD)半導(dǎo)體器件為檢測器；中階梯光柵結(jié)合棱鏡(或平面光柵)構(gòu)成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng)，能同時獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經(jīng)近十年的不斷完善和發(fā)展，目前已成為ICP光譜儀的主流。

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬，雙向觀測，冷錐消除尾焰，具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，有效穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快，確保Plasma 3000

ICP光譜儀精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現(xiàn)“全譜直讀”。

功能強大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1%

儀器規(guī)格

尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)

分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積：24μm x 24μm

工作環(huán)境

實驗室濕度環(huán)境：相對濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%

排  風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時

電  源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國產(chǎn)單道掃描ICP進入固態(tài)光源時代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動負載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測試，具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設(shè)計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設(shè)計，快速定位，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節(jié)約使用成本。

實時監(jiān)控儀器運行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。