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真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇
真空泵工作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)對(duì)工藝過(guò)程及環(huán)境有無(wú)影響。若工藝過(guò)程不允許,應(yīng)選擇無(wú)振動(dòng)的泵或者采取防振動(dòng)措施。
了解被抽氣體成分,氣體中含不含可凝蒸氣,有無(wú)顆?;覊m,有無(wú)腐蝕性等。選擇真空泵時(shí),需要知道氣體成分,針對(duì)被抽氣體選擇相應(yīng)的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體,應(yīng)該考慮在泵的進(jìn)氣口管路上安裝輔助設(shè)備,如冷凝器、除塵器等。
真空泵在其工作壓強(qiáng)下,應(yīng)能排走真空設(shè)備工藝過(guò)程中產(chǎn)生的全部氣體量。
真空設(shè)備對(duì)油污染的要求。若設(shè)備嚴(yán)格要求無(wú)油時(shí),應(yīng)該選各種無(wú)油泵,如:水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴(yán)格,可以選擇有油泵,加上一些防油污染措施,如加冷阱、障板、擋油阱等,也能達(dá)到清潔真空要求。
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正確地組合真空泵。由于真空泵有選擇性抽氣,因而,有時(shí)選用一種泵不能滿(mǎn)足抽氣要求,需要幾種泵組合起來(lái),互相補(bǔ)充才能滿(mǎn)足抽氣要求。在傳感器方面在傳感器中,多采用那些電氣性質(zhì)相對(duì)于物理量、化學(xué)量及其變化來(lái)說(shuō),極為敏感的半導(dǎo)體材料。另外,有的真空泵不能在大氣壓下工作,需要預(yù)真空;有的真空泵出口壓強(qiáng)低于大氣壓,需要前級(jí)泵,故都需要把泵組合起來(lái)使用。
正確地選擇真空泵的工作點(diǎn)。每種泵都有一定的工作壓強(qiáng)范圍,如:2BV系列水環(huán)真空泵工作壓強(qiáng)范圍760mmHg~25mmHg(絕壓),在這樣寬壓強(qiáng)范圍內(nèi),泵的抽速隨壓強(qiáng)而變化(詳細(xì)變化情況參照泵的性能曲線(xiàn)),其穩(wěn)定的工作壓強(qiáng)范圍為760~60mmHg。3.其它小五金:皮革五金.不銹鋼餐具.眼鏡框、刀具、模具等.4.大型工件:汽車(chē)輪轂、不銹鋼板.招牌.雕塑等。因而,泵的工作點(diǎn)應(yīng)該選在這個(gè)范圍之內(nèi)較為適宜,而不能讓它在25~30mmHg下長(zhǎng)期工作。
真空泵排出來(lái)的油蒸氣對(duì)環(huán)境的影響如何。如果環(huán)境不允許有污染,可以選無(wú)油真空泵,或者把油蒸氣排到室外。
真空泵的工作壓強(qiáng)應(yīng)該滿(mǎn)足真空設(shè)備的極限真空及工作壓強(qiáng)要求。如:某真空干燥工藝要求10mmHg的工作真空度,選用的真空泵的極限真空度至少要2mmHg,1好能達(dá)到1mmHg。通常選擇泵的極限真空度要高于真空設(shè)備工作真空度半個(gè)到一個(gè)數(shù)量級(jí)。
現(xiàn)代真空鍍膜機(jī)膜厚測(cè)量及監(jiān)控方法
涂層的鍍膜機(jī)控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法,該儀器可以直接驅(qū)動(dòng)的蒸發(fā)源,通過(guò)PID控制回路傳動(dòng)擋板,使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接,它可以控制涂層的全過(guò)程。2、極限真空度高,可達(dá)7×10-5Pa,可保證更高的鍍膜純凈度,提高鍍膜質(zhì)量。但(QCM)的準(zhǔn)確性是有限的,鍍膜機(jī)部分原因是其監(jiān)測(cè)代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。
此外,雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定,但溫度高,它將成為對(duì)溫度很敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中,鍍膜機(jī)很難避免傳感器為敏感的區(qū)域,導(dǎo)致薄膜的重大錯(cuò)誤。 光學(xué)監(jiān)測(cè)是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式,鍍膜機(jī)這是因?yàn)樗軠?zhǔn)確控制膜的厚度(如果使用得當(dāng))。
精度的提高,由于許多因素,但根本的原因是光學(xué)厚度的監(jiān)測(cè)。optimalswa-i-05單一波長(zhǎng)的光學(xué)監(jiān)測(cè)系統(tǒng),是間接控制,鍍膜機(jī)先進(jìn)的光學(xué)監(jiān)測(cè)軟件結(jié)合王博士的發(fā)展,有效地改善和靈敏度變化的光反應(yīng)的膜厚度的減少終的誤差的理論方法,提供監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。在集成電路制造中晶體管路中的保護(hù)層(SiO2、Si3N4)、電極管線(xiàn)等,多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。