山東齊魯乙烯化工股份有限公司，是齊魯石化30萬噸乙烯配套企業(yè)，于一九八八年建成投產(chǎn)，主要設(shè)備從日本引進(jìn)。在市場經(jīng)濟(jì)的大潮中，經(jīng)過30多年的拼搏現(xiàn)已發(fā)展成為集科、工、貿(mào)為一體的大型企業(yè)。而PLANTIC（普蘭地）這種新型材料的出現(xiàn)，卻打破了這種關(guān)系。公司總占地面積300余畝，員工人數(shù)400余名，其中專業(yè)技術(shù)人員及檢測人員占35%，主要產(chǎn)品有塑料類：PVB膠片（年產(chǎn)3000噸）、高阻隔食品包裝膜/袋（年產(chǎn)5000噸）；化工類：氫氧化鈣（年產(chǎn)140,000噸）、氧化鈣（年產(chǎn)1,500,000噸）、液氨（年產(chǎn)10,000噸）等。

高阻隔與可降解這兩大重要課題越來越受到重視。高阻隔包裝可以通過對氧氣的阻隔減緩內(nèi)容物的變質(zhì)，實(shí)現(xiàn)延長保質(zhì)期及貨架期的作用。而可降解包裝則可通過可降解材料的使用，減少塑料包裝對環(huán)境的負(fù)擔(dān)。

在高阻隔材料方面， EVOH在所有的塑料材料中擁有高的氣體阻隔能力，被廣泛用于食品包裝等眾多領(lǐng)域，在食品包裝及工業(yè)阻隔應(yīng)用上具有領(lǐng)導(dǎo)地位。但EVOH雖然解決了食品包裝中阻隔性的問題，可對于全球日益增長的包材可降解的需求卻束手無策。

而在可降解包裝材料方面，雖然有PLA等眾多材料被使用，但這些材料本身均不具有阻隔性?？山到馀c高阻隔在材料界，似乎是魚與熊掌，不可兼得的關(guān)系。而PLANTIC（普蘭地）這種新型材料的出現(xiàn)，卻打破了這種關(guān)系。

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山東齊魯乙烯化工股份有限公司，是齊魯石化30萬噸乙烯配套企業(yè)，于一九八八年建成投產(chǎn)，主要設(shè)備從日本引進(jìn)。在市場經(jīng)濟(jì)的大潮中，經(jīng)過30多年的拼搏現(xiàn)已發(fā)展成為集科、工、貿(mào)為一體的大型企業(yè)。通過使用可樂麗思特TM，企業(yè)可以簡化復(fù)合膜結(jié)構(gòu)，如原來的PET//AL//BOPA的三層復(fù)合膜可由可樂麗思特TMC代替，實(shí)現(xiàn)包裝輕量化，減少企業(yè)復(fù)合工序，降低成本。公司總占地面積300余畝，員工人數(shù)400余名，其中專業(yè)技術(shù)人員及檢測人員占35%，主要產(chǎn)品有塑料類：PVB膠片（年產(chǎn)3000噸）、高阻隔食品包裝膜/袋（年產(chǎn)5000噸）；化工類：氫氧化鈣（年產(chǎn)140,000噸）、氧化鈣（年產(chǎn)1,500,000噸）、液氨（年產(chǎn)10,000噸）等。

通過EVOH及兩層PA的良好的阻隔性能，被包裝物中易揮發(fā)性物質(zhì)的離散能到有效的阻隔，并阻隔外界氣味及水分對包裝物的污染，使產(chǎn)品品質(zhì)得到保證，直接成型高阻隔片材要求的包裝延長保質(zhì)期、適合于肉類、家禽類、海鮮、乳酪等食品的包裝。

在可降解包裝材料方面，雖然有PLA等眾多材料被使用，但這些材料本身均不具有阻隔性?？?/span>

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山東齊魯乙烯化工股份有限公司擁有省級花園式生產(chǎn)基地，通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認(rèn)證以及ISO 14001：2004環(huán)境管理體系認(rèn)證。高阻隔性樹脂為EVOH及PVDC等，常用于中間層，（4）塑料薄膜與鋁箔的復(fù)合結(jié)構(gòu)的包裝材料發(fā)展很快，其品種已有幾百種。乙烯化工秉承二十多年來“專業(yè)，誠信，進(jìn)取，創(chuàng)新”的宗旨，客戶至上，沒有品質(zhì)就沒有市場，沒有改善就沒有進(jìn)步的經(jīng)營理念，竭誠為廣大海內(nèi)外客戶提供高品質(zhì)的產(chǎn)品和的服務(wù)。

常用的蒸鍍薄膜基材有BOPA、PET和PP，真空鍍鋁的薄膜除用于要求阻隔性能的場合外，還以其華麗外表作為裝飾材料來使用。用類似真空鍍鋁的方法，還可以在塑料薄膜表面蒸鍍SiOx，被鍍薄膜基本也為PET、BOPP、PA等。一、乙烯-乙烯醇共聚物（EVOH）二、尼龍粒子三、粘合樹脂所謂高阻隔，可以定義為一種材料具有很強(qiáng)的阻止另一種材料進(jìn)入的能力，不論另一種材料是氣體、水汽、氣味，還是怪味或香氣。 SiOx 鍍薄材料的優(yōu)點(diǎn)為涂層透明性高，且由于蒸鍍材料對微波無反射作用，它尤其適合于制作需要直接在微波爐中加熱的微波食品的包裝袋。SiOx 蒸發(fā)過程在概念上與真空鍍鋁非常類似。所鍍SiOx的厚度通常為40～100nm，每個(gè)硅原子周圍平均為1～2個(gè)氧原子。

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