氮化鈦特性：典型、通用的耐磨涂層，細(xì)微納米級(jí)顆粒的涂層顯微結(jié)構(gòu)兼?zhèn)涓唔g性。高硬度，耐高溫、強(qiáng)抗腐蝕性，此鍍鈦加工涂層的工作溫度在350度以內(nèi)效果佳。在鍍鈦生產(chǎn)中，由于各種原因，導(dǎo)致各種有害雜質(zhì)進(jìn)入鍍鈦液。雜質(zhì)的種類繁多，大致有金屬雜質(zhì)、金屬氧化物、非金屬雜質(zhì)和種種不溶性懸浮物、有機(jī)雜質(zhì)等。當(dāng)一種或幾種有害雜質(zhì)積累到一定程度時(shí)，就會(huì)影響鍍液性能和鍍層質(zhì)量?；蛘咴陔s質(zhì)積累到有可能影響鍍鈦層質(zhì)量之前，凈化處理鍍鈦液，以保證鍍鈦藥液的穩(wěn)定性。

PVD燈具的鋁涂層真空鍍膜

PVD燈具的鋁涂層真空鍍膜。因?yàn)槭墙饘俦∧?，DC磁控濺射當(dāng)然好。速度快。中頻適合鍍復(fù)合膜。如果選擇離子源，霍爾離子源就足夠了。但是要注意燈具的大小。一般霍爾離子源為圓形，離子源覆蓋面積有限。你必須用離子束覆蓋所有工件。如果普通霍爾離子源太小，可以考慮陽(yáng)極層離子源。離子源難以發(fā)光的一個(gè)原因是磁場(chǎng)太弱，無(wú)法激發(fā)等離子體。雖然離子源種類很多，但基本上是先產(chǎn)生等離子體，然后從等離子體中提取氣體離子，加速成離子束，以便后期注入電子，根據(jù)需要中和離子流。

PVD法歷早采用真空蒸鍍技術(shù)

PVD是一種物理氣相沉積法，它分為：真空蒸發(fā)法、真空濺射法和真空離子法。PVD鍍膜通常指的是真空離子鍍膜；NCVM鍍膜通常指的是真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍膜。真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面，PVD法歷早采用真空蒸鍍技術(shù)。