頭部集成了薄膜厚度測量所需功能

通過顯微光譜法測量高i精度絕i對反射率（多層膜厚度，光學常數(shù)）

1點1秒高速測量

顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)（紫外至近紅外）

區(qū)域傳感器的安全機制

易于分析向?qū)?，初學者也能夠進行光學常數(shù)分析

獨立測量頭對應(yīng)各種inline客制化需求

支持各種自定義

測量項目：

絕i對反射率測量

多層膜解析

光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）

大塚電子（蘇州）有限公司主要銷售用于光學特性評價?檢查的裝置。其裝置用于在LED、 OLED、汽車前燈等的光源?照明產(chǎn)業(yè)以及液晶顯示器、有機EL顯示器等平板顯示產(chǎn)業(yè)以及其相 關(guān)材料的光學特性評價?檢查。歡迎新老客戶來電咨詢！

膜厚儀具有測量誤差小、可靠性高、穩(wěn)定性好、操作簡便等特點，是控制和保證產(chǎn)品質(zhì)量必不可少的檢測儀器，廣泛地應(yīng)用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測領(lǐng)域。

測量示例：

SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚測量

半導體晶體管通過控制電流的導通狀態(tài)來發(fā)送信號，但是為了防止電流泄漏和另一個晶體管的電流流過任意路徑，有必要隔離晶體管，埋入絕緣膜。 SiO 2（二氧化硅）或SiN（氮化硅）可用于絕緣膜。 SiO 2用作絕緣膜，而SiN用作具有比SiO 2更高的介電常數(shù)的絕緣膜，或是作為通過CMP去除SiO 2的不必要的阻擋層。之后SiN也被去除。 為了絕緣膜的性能和精準的工藝控制，有必要測量這些膜厚度。



 

如果膜厚測試儀已經(jīng)進行了適當?shù)男剩械臏y量值將保持在一定的誤差范圍內(nèi)；根據(jù)統(tǒng)計學的觀點，一次讀數(shù)是不可靠的。因此任何由膜厚測試儀顯示的測量值都是五次“看不見”的測量的平均值。這五次測量是在幾分之一秒的時間內(nèi)由探頭和儀器完成的。