ZF450型全自動(dòng)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)電阻器熱蒸發(fā)鍍膜供貨商，我們?yōu)槟峁┫铝行畔?nèi)容。

選用3～8組蒸發(fā)源可適配金屬材料、有機(jī)化合物蒸發(fā)。廣泛運(yùn)用于高等院校材料、物理學(xué)、有機(jī)化學(xué)、電子器件、電力能源等有關(guān)課程及其科研單位制取高品質(zhì)作用塑料薄膜、蒸鍍電級(jí)等，非常合適OPV/鈣鈦礦/無(wú)機(jī)物太陽(yáng)能薄膜充電電池、半導(dǎo)體材料、有機(jī)化學(xué)EL、OLED顯示信息科學(xué)研究與開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)行業(yè)。ParyleneC粉具有非常低的水分子和腐蝕性氣體的透過(guò)率，沉積生長(zhǎng)速率也比N型快得多，相應(yīng)的滲透能力也差于N型。

1.前開(kāi)關(guān)門真空內(nèi)腔，便捷拿取基片、拆換蒸發(fā)舟、加上蒸發(fā)材料及其真空室的平時(shí)維護(hù)保養(yǎng)；

2.1200L/s分子泵做為主抽泵，真空限達(dá)到5×10-5Pa； 

另可選擇進(jìn)口磁懸浮分子泵或是低溫泵做為主抽泵，真空限達(dá)到 3×10-6Pa；

3. 組水冷器蒸發(fā)電級(jí)，可長(zhǎng)期平穩(wěn)工作中，適配金屬材料材料與有機(jī)化學(xué)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì)方案，

源間有避免交叉式環(huán)境污染擋板；

4. 真空蒸發(fā)開(kāi)關(guān)電源，恒流電源/恒輸出功率操縱?？杀３忠绘I啟動(dòng)和終止的自動(dòng)控制系統(tǒng)作用；

5.較大120mm基片/15～25mm ITO/FTO夾層玻璃25片，可訂制一體化高精密刻蝕掩膜板；

6.基片臺(tái)自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速比0～25rpm持續(xù)可調(diào)式；

7. 襯底可挑選加溫或水冷散熱，源基距較大350mm；

8. 選用進(jìn)口膜厚監(jiān)控器儀在線監(jiān)控和操縱蒸發(fā)速度、膜厚；

9. 可堆積金屬材料（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬材料、化學(xué)物質(zhì)（MoO3, LiF等）

及有機(jī)化合物材料， 可擴(kuò)展堆積單面膜、雙層膜及混和膜；

以上就是關(guān)于電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話或關(guān)注沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司！

ZF500有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空抽氣及測(cè)量、膜厚測(cè)試 、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度4×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機(jī)束源爐：數(shù)量：4支，標(biāo)準(zhǔn)型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐?；臏囟葟氖覝刂?00℃（硅片上表面的溫度，只需標(biāo)定一次即可）

4套擋板系統(tǒng)：動(dòng)密封手動(dòng)控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999?