湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

濺射靶起輝放電后，當(dāng)電源的輸出脈沖的重復(fù)頻率足夠高時，由于真空腔體內(nèi)的導(dǎo)電離子還沒有完全被中和完畢，第二個(以后)重復(fù)脈沖的復(fù)輝電壓與濺射靶的工作電壓接近或相同。選用正弦波中頻靶電源，由于波形的原因，靶面產(chǎn)生打弧的幾率更低并優(yōu)于雙極性矩形波中頻靶電源。當(dāng)電源輸出脈沖的重復(fù)頻率很低(例如幾百HZ以下)或滅弧時間過長(大于100ms以上)，濺射靶起輝放電后，由于真空腔體內(nèi)的導(dǎo)電離子已基本被中和掉，第二個(以后)重復(fù)脈沖的復(fù)輝電壓恢復(fù)至較高數(shù)值，與點(diǎn)火起輝時的高電壓接近或相同。??

輝光放電是種低氣壓放電(Low pressure discharge)現(xiàn)象,工作壓力一般都低于10 mbar,其基本構(gòu)造是在封閉的容器內(nèi)放置兩個平行的電極板,利用產(chǎn)生的電子將中性原子或分子激發(fā),而被激發(fā)的粒子由激發(fā)態(tài)降回基態(tài)時會以光的形式釋放出能量。離子滲氮是在真空室內(nèi)進(jìn)行的，工件接高壓直流電源的負(fù)極，真空鐘單接正極。

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輝光放電時，在兩個電極附近聚集了較多的異號空間電荷，因而形成明顯的電位降落，分別稱為陰極壓降和陽極壓降。陰極壓降又是電極間電位降落的主要成分，在正常輝光放電時，兩極間的電壓不隨電流變化，即具有穩(wěn)壓的特性。

1992年，Roth小組在5mm氦氣間隙實(shí)現(xiàn)了APGD，并聲稱在幾個毫米的空氣間隙中也實(shí)現(xiàn)了APGD, 主要的實(shí)驗條件為濕度低于15% 、氣體流速50l/min、頻率為3kHz的電源并且和負(fù)載阻抗匹配。利用稀薄氣體的輝光放電現(xiàn)象加熱工件表面和電離化學(xué)熱處理介質(zhì)，使之實(shí)現(xiàn)在金屬表面滲入欲滲元素的工藝稱為輝光放電離子化學(xué)熱處理，簡稱離子化學(xué)熱處理。他們認(rèn)為“離子捕獲”是實(shí)現(xiàn)APGD的關(guān)鍵。