微弧氧化原理

       微弧氧化或等離子體電解氧化表面陶瓷化技術，是指在普通陽極氧化的基礎上，微弧氧化技術 利用弧光放電增強并ji活在陽極上發(fā)生的反應，從而在以鋁、鈦、鎂等金屬及其合金為材料的工件表面形成的強化陶瓷膜的方法，微弧氧化電源是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加電壓，微弧氧化使工件表面的金屬與電解質溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達到工件表面強化的目的。微弧氧化技術是在普通陽極氧化技術的基礎上發(fā)展起來的，進一步提高電壓，使電壓超出法拉第區(qū)，達到氧化膜的擊穿電壓，就會在陽極出現(xiàn)火花放電現(xiàn)象，在材料表面形成陶瓷氧化膜，使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的高性能，又保持了陽極氧化膜與基體的結合力。

微弧氧化過程

       在微弧氧化處理過程中，待氧化試樣與電源正極相連，作為陽極浸入電解液之中，不銹鋼電解槽作為陰極與電源負極相連。在開通電源后，正脈沖電壓快速升高，電流迅速下降，作為陽極的待氧化試樣開始進行陽極氧化,產生大量微小氣泡，同時在試樣表面形成了一層極薄的鈍化膜。從微弧氧化電源技術要求來看，要實現(xiàn)脈沖電源波形變換多、參數(shù)調節(jié)范圍寬，必定使電路復雜化、造價提高、可靠性降低。當外加脈沖電壓超過一定值時，材料表面出現(xiàn)一層極細微均勻的放電火花，這種微區(qū)火花放電現(xiàn)象在試樣表面不同位置出現(xiàn)，在待微弧氧化表面原位生長陶瓷膜層，以達到強化材料表面的目的。微弧氧化設備、微弧氧化生產線、微弧氧化電源、鋁合金微弧氧化、微弧噴涂

       微弧氧化產生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉變和結構轉變。在微弧氧化的過程下，原來生產的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應的厚度。微弧氧化過程中有一個很大的優(yōu)點就是外加電源突然中斷時可以直接繼續(xù)進行氧化，不需要除去工件上的氧化膜，也不必更換樣品重新處理。經測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術優(yōu)勢、微弧氧化設備、微弧氧化電源

微弧氧化電源基本結構

       從微弧氧化電源技術要求來看，要實現(xiàn)脈沖電源波形變換多、參數(shù)調節(jié)范圍寬，必定使電路復雜化、造價提高、可靠性降低。所以適用、可靠_且經濟性的電源結構是設計方案的基本出發(fā)點。現(xiàn)在國內的大部分脈沖電源都是采用兩個相互獨立的電源進行疊加而組成的，在兩個電源之間加上切換裝置、控制正負脈沖電流的截止和導通。但是，這樣不但使電源結構復雜化，同時也增加了控制電路的負擔，使電源成本增加。微弧氧化原理是在工件表面生成陽極化膜的同時，通過微電弧瞬時7000K高溫把極化膜轉為陶瓷相。 在考慮簡化電源結構的基礎上，采用復合功率轉換電路的形式，即由前級向后級供電，由后級控制電流的設計方案。電源通過設定不同的占空比進行直流調壓，從而得到預定的輸出電壓，然后，利用逆變電路實現(xiàn)波形控制。