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天津多功能磁控濺射鍍膜機(jī)品牌服務(wù)為先「多圖」

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-20 04:13  







磁控濺射鍍膜設(shè)備及技術(shù)

(專利技術(shù))該設(shè)備選用磁控濺射鍍一層薄薄的膜(MSP)技術(shù)性,是這種智能、率的鍍膜設(shè)備??梢罁?jù)客戶規(guī)定配備轉(zhuǎn)動(dòng)磁控靶、單脈沖濺射靶、中頻孿生濺射靶、非均衡磁控濺射靶、霍耳等離子技術(shù)源、考夫曼離子源、直流電單脈沖累加式偏壓開關(guān)電源等,組態(tài)靈便、主要用途普遍,主要用于金屬材料或非金屬材料(塑膠、夾層玻璃、瓷器等)的鋼件鍍鋁、銅、鉻、鈦金板、銀及不銹鋼板等陶瓷膜或式陶瓷膜及滲金屬材料DLC膜,所鍍一層薄薄的膜層勻稱、高密度、粘合力強(qiáng)等特性,可普遍用以電器產(chǎn)品、時(shí)鐘、陶瓷藝術(shù)品、小玩具、大燈反光罩及其儀表設(shè)備等表層裝飾藝術(shù)鍍一層薄薄的膜及工磨具的作用鍍層。從應(yīng)用角度出發(fā),通常要求ITO薄膜的成份是In2O3和SnO2,薄膜中銦錫低價(jià)化合物愈少愈好。2離子轟擊滲擴(kuò)技術(shù)性的特性(1)離子轟擊滲擴(kuò)更快因?yàn)檫x用低溫等離子無心插柳,為滲劑分子和正離子的吸咐和滲人造就了高寬比活性的表層,提升了結(jié)晶中缺點(diǎn)的相對(duì)密度,比傳統(tǒng)式的汽體滲擴(kuò)技術(shù)性速率明顯增強(qiáng)。在一樣加工工藝標(biāo)準(zhǔn)下,滲層深度1在0.05二以內(nèi),比汽體滲擴(kuò)提升1倍。在較高溫度下,1h就能達(dá)lmm厚。(2)對(duì)鋼件表層改..

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磁控濺射鍍膜機(jī)原理

由此可見,濺射過程即為入射離子通過一系列碰撞進(jìn)行能量交換的過程,入射離子轉(zhuǎn)移到逸出的濺射原子上的能量大約只有原來能量的1%,大部分能量則通過級(jí)聯(lián)碰撞而消耗在靶的表面層中,并轉(zhuǎn)化為晶格的振動(dòng)。濺射原子大多數(shù)來自靶表面零點(diǎn)幾納米的淺表層,可以認(rèn)為靶材濺射時(shí)原子是從表面開始剝離的。再此全過程中靶材表層一起發(fā)射點(diǎn)二次電子,這種電子器件在維持等離子技術(shù)平穩(wěn)存有層面具備主導(dǎo)作用。如果轟擊離子的能量不足,則只能使靶材表面的原子發(fā)生振動(dòng)而不產(chǎn)生濺射。如果轟擊離子能量很高時(shí),濺射的原子數(shù)與轟擊離子數(shù)之比值將減小,這是因?yàn)檗Z擊離子能量過高而發(fā)生離子注入現(xiàn)象的緣故。

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磁控濺射鍍膜機(jī)工藝

(1)技術(shù)方案 磁控濺射鍍光學(xué)膜,有以下三種技術(shù)路線: (a)陶瓷靶濺射:靶材采用金屬化合物靶材,可以直接沉積各種氧化物或者氮化物,有時(shí)候?yàn)榱说玫礁叩哪蛹兌龋残枰ㄈ胍欢糠磻?yīng)氣體); (b)反應(yīng)濺射:靶材采用金屬或非金屬靶,通入稀有和反應(yīng)氣體的混合氣體,進(jìn)行濺射沉積各種化合物膜層。 (c)離子輔助沉積:先沉積一層很薄的金屬或非金屬層,然后再引入反應(yīng)氣體離子源,將膜層進(jìn)行氧化或者氮化等。處理這種具體難題的方式是對(duì)涉及到無心插柳堆積全過程的所有要素開展總體的可靠性設(shè)計(jì),創(chuàng)建1個(gè)無心插柳鍍一層薄薄的膜的綜合性布置系統(tǒng)軟件。 采用以上三種技術(shù)方案,在濺射沉積光學(xué)膜時(shí),都會(huì)存在靶zhong毒現(xiàn)象,從而導(dǎo)致膜層沉積速度非常慢,對(duì)于上節(jié)介紹各種光學(xué)膜來說,膜層厚度較厚,膜層總厚度可達(dá)數(shù)百納米。這種沉積速度顯然增加了鍍膜成本,從而限制了磁控濺射鍍膜在光學(xué)上的應(yīng)用。

(2)新型反應(yīng)濺射技術(shù) 筆者對(duì)現(xiàn)有反應(yīng)濺射技術(shù)方案進(jìn)行了改進(jìn),開發(fā)出新的反應(yīng)濺射技術(shù),解決了鍍膜沉積速度問題,同時(shí)膜層的純度達(dá)到光學(xué)級(jí)別要求。表2.1是采用新型反應(yīng)濺射沉積技術(shù),膜層沉積速度對(duì)比情況。

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磁控濺射鍍膜機(jī)的優(yōu)勢(shì)

1.實(shí)用性:設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,可以滿足客戶實(shí)驗(yàn)室空間不足的苛刻條件;通過更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換,實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用;

2.方便性:設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調(diào)試簡(jiǎn)單,既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔;

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