焦硫1酸鉀、硫1酸氫鉀等酸性溶劑和含硫化物的溶劑不能用于鎳坩堝。若要熔融含硫化合物時，應在有過量過氧1化鈉的氧化環(huán)境下進行。熔融狀態(tài)的鋁、鋅、錫、鉛等的金屬鹽能使鎳坩堝變脆。銀、釩的化合物和硼砂等也不能在鎳坩堝中灼燒。新的鎳坩堝在使用前應在700℃灼燒數(shù)分鐘，以除去油污并使其表面生成氧化膜，延長使用壽命，處理后的坩堝應呈暗綠色或灰黑色。半透明石英是由天然純凈的脈石英或石英砂制成的，因其含有許多熔煉時未排凈的氣泡而呈半透明狀。

注漿方法 中空注漿時，正在模壁吸附漿料達要求薄厚時，還需將盈余漿料倒出。加熱后表面會生成一層氧化銀，在高溫下不穩(wěn)定，但在200℃以下穩(wěn)定。為增添坯體延長量、應過分使用深奧淺漿料。注漿成型是氧化鐵陶瓷使用較早的成型方法。一般以水為熔劑介質(zhì)，再加入剛剛玉莫來石匣缽解膠劑與粘結(jié)劑，充分研磨當前排氣，而后倒寫入熟石膏模內(nèi)。由于采納熟石膏模、利潤低且易于成型大尺度、形狀剛剛玉坩堝錯雜的元件。注漿成型的要害是氧化鐵漿料的制備。由于匣缽熟石膏模毛細1血管對于潮氣的吸附，漿料遂固化正在模內(nèi)。

新的石墨坩堝煅燒不夠徹底即投入使用會造成石英坩堝外層嚴重析晶。盡管國外生產(chǎn)和國產(chǎn)的熱分析坩堝看起來都是干凈的，但是進口的是在無塵空間里面生產(chǎn)潔凈度比較高，而國產(chǎn)的熱分析坩堝基本上達不到這一要求，坩堝為一陶瓷深底的碗狀容器。石墨坩堝因使用時間過長，其原有的厚度氧化降解而大為減薄。坩堝在清洗的時候一般情況下不用水進行直接的清洗，而是用稀鹽酸，這樣才能清洗的更加的干凈二期清洗完之后才會桄榔如新，但是這種鹽酸一定是要稀釋過的，不要弄純度太高的鹽酸，這樣會對鉑金坩堝造成一定的損害

坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。但多數(shù)硅酸鹽材料(水泥、陶瓷、玻璃)是混合物，含一定量雜質(zhì)SiO2。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎材料。當今，世界半導體工業(yè)發(fā)達國家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。坩堝的主體原料，是結(jié)晶形天然石墨。故它保持著天然石墨原有的各種理化特性。坩堝具有良好的熱導性和耐高溫性，在高溫使用過程中，熱膨脹系數(shù)小，對急熱、急冷具有一定抗應變性能