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NR29 25000P光刻膠公司源頭直供廠家

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發(fā)布時間:2020-07-17 06:55  






光刻膠介紹

光刻膠介紹

光刻膠(又稱光致抗蝕劑),是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學敏感性,其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術中的關鍵性化工材料,被廣泛應用于光電信息產業(yè)的微細圖形線路的加工制作。在半導體應用領域,隨著汽車電子、物聯網等發(fā)展,會在一定程度上增加對G線、I線的需求,利好G線、I線等生產企業(yè)。生產光刻膠的原料包括光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。


正負光刻膠

正負光刻膠

光刻膠分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑是不可溶的,經光照后變成可溶物質的即為正性膠。正膠的圖像與掩模板的圖像是一致的,故此叫正膠,利用這種性能,將光刻膠作涂層,就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。

一般來說線寬的用正膠,線窄的用負膠! 正性光刻膠比負性的精度要高,負膠顯影后圖形有漲縮,負性膠限制在2~3μm.,而正性膠的分辨力優(yōu)于0.5μm 導致影響精度,正性膠則無這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負性膠的分辨率,但是薄負性膠會影響孔。同種厚度的正負膠,在對于抗?jié)穹ê透g性方面負膠更勝一籌,正膠難以企及。賽米萊德提供美國Futurrex的光刻膠的供應與技術參數。在光刻膠生產種類上,我國光刻膠廠商主要生產PCB光刻膠,而LCD光刻膠和半導體光刻膠生產規(guī)模較小,相關光刻膠主要依賴進口。


PR1-1500A1NR29 25000P光刻膠公司

6,堅膜

堅膜也叫后烘,是為了去除由于顯影液的浸泡引起膠膜軟化、溶脹現象,能使膠膜附著能力增強,康腐蝕能力提高。

堅膜溫度通常情況高于前烘和曝光后烘烤的溫度 100-140 10-30min

7,顯影檢驗

光刻膠鉆蝕、圖像尺寸變化、套刻對準不良、光刻膠膜損傷、線條是否齊、陡

小孔、小島。

NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:

- 優(yōu)異的分辨率性能

- 快速地顯影

- 可以通過調節(jié)曝光能量很容易地調節(jié)倒梯形側壁的角度

- 耐受溫度100℃

- 室溫儲存保質期長達3 年




PC6-16000

NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:

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NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR9-6000PY 5.0μm -

12.2μm  

Resist Thickness

NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR71-6000PY 5.0μm - 12.2μm



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