uv光氧催化設(shè)備

許多經(jīng)濟(jì)有用的去除揮發(fā)性有機(jī)污染物的技能被廣泛的研討，其間光催化氧化法是90年代今后發(fā)展起來(lái)的處理?yè)]發(fā)性有機(jī)廢氣的新辦法、但現(xiàn)在還根本處于試驗(yàn)研討階段。相較于其他的處理辦法，光催化氧化法具有工藝簡(jiǎn)略、成本低、能耗低一級(jí)特色，對(duì)低濃度的VOCs有很好的去除作用。uv光氧催化設(shè)備通過(guò)對(duì)工藝路線的優(yōu)化，該工藝的特點(diǎn)如下：uv光氧催化設(shè)備設(shè)置了緩沖罐和補(bǔ)風(fēng)管線，緩沖罐可收集和調(diào)勻各設(shè)備排放的廢氣，補(bǔ)風(fēng)管線通過(guò)補(bǔ)充冷空氣來(lái)降低廢氣溫度，避免高溫對(duì)UV光解器的影響。本文在一般的uv光氧催化設(shè)備中參加波長(zhǎng)更短、能量更強(qiáng)的真空紫外線（UV）光源，以家苯為處理目標(biāo)，選用管式反應(yīng)器，運(yùn)用負(fù)載納米TiO2的玻璃珠和γ-Al2O3小球?yàn)樘盍?，?duì)真空紫外線光催化法去除家苯作了扼要的試驗(yàn)研討，經(jīng)過(guò)改變反應(yīng)器的運(yùn)轉(zhuǎn)條件，研討了進(jìn)口濃度、停留時(shí)間、相對(duì)濕度等要素對(duì)家苯去除率的影響。

試驗(yàn)結(jié)果表明，uv光氧催化設(shè)備參加真空紫外線（UV）光源、延伸停留時(shí)間和較低的入口濃度，能夠有用進(jìn)步對(duì)家苯的去除率；濰坊至誠(chéng)環(huán)保技術(shù)工程有限公司專業(yè)從事廢氣處理設(shè)備研究及廢氣治理項(xiàng)目施工十余年。相對(duì)濕度在45%-60%間，氣體停留時(shí)間25s，家苯進(jìn)口濃度60mg/m3時(shí)，家苯的去除率醉高到達(dá)69%；參加負(fù)載納米TiO2的γ-Al2O3小球構(gòu)建的吸附—光催化二元系統(tǒng)對(duì)家苯的去除作用更好，對(duì)進(jìn)口濃度改變的適應(yīng)性較強(qiáng)，當(dāng)家苯進(jìn)口濃度由400 mg/m3升高至800 mg/m3，uv光氧催化設(shè)備其對(duì)家苯的去除率由42%下降至34%，而以玻璃珠為載體時(shí)，同條件下對(duì)家苯的去除率則由37%降至18%，而且運(yùn)用真空紫外線光催化能夠下降UV光源發(fā)生的臭氧的濃度。

uv光氧催化設(shè)備

uv光氧催化設(shè)備

uv光氧催化設(shè)備光催化反應(yīng)速率往往取決于反響物的濃度， TiO2有稍稍的吸附才能，復(fù)合材料添加這些吸附才能，能夠進(jìn)步二氧化鈦外表的顆粒層，然后環(huán)境中高濃度的有機(jī)物吸附在TiO2周圍，成果使得催化作用明顯進(jìn)步，在很多的研討中運(yùn)用了吸附劑與光催化設(shè)備復(fù)合，如沸石、氧化鋁、硅土、絲光沸石和活性炭等等，這些吸附資料常作為TiO2的載體，試驗(yàn)標(biāo)明混合催化具有較高的降解率，并且除了TiO2外ZnO在與活性炭的一起作用下也表現(xiàn)出較好的光催化作用。uv光氧催化設(shè)備TiO2中參加鑭系金屬（La3 ,Eu3 ,Pr3 ,Nd3 ,Sm3 ）能夠有用地進(jìn)步催化劑外表的化學(xué)和物理吸附有機(jī)物的功能[10]。

影響uv光氧催化設(shè)備光催化凈化的主要因素

uv光氧催化設(shè)備光源及其強(qiáng)度

紫外線光源是光催化反響不行短少的重要部分，對(duì)光催化反響速率有著重要的影響。理論上講小于380nm的光頻能夠誘發(fā)TiO2的光催化活性。當(dāng)負(fù)載P25UV光催化設(shè)備后，進(jìn)行光催化反響試驗(yàn)，uv光氧催化設(shè)備試驗(yàn)結(jié)果表明運(yùn)用真空紫外線（UV）后，在同等條件下可以進(jìn)步光催化處理功率7%左右。雖然一些研討者開發(fā)了可見(jiàn)光條件下的光催化反響，可是滅菌紫外線（UVC 254nm）熒光黑光燈(300–370 nm)仍然是醉廣泛運(yùn)用的光源。

進(jìn)口濃度對(duì)家苯去除率的影響

uv光氧催化設(shè)備試驗(yàn)光源選用一盞10W的真空紫外線（UV）燈，流量為0.6L/min，逗留時(shí)間為25s，相對(duì)濕度45%，負(fù)載P25 光催化設(shè)備的玻璃珠為UV光催化設(shè)備的填料。每距離15min從反響器出口采樣，分別在uv光氧催化設(shè)備反響器進(jìn)口濃度為60mg/m3、100mg/m3、200mg/m3、400mg/m3。800mg/m3條件下測(cè)定家苯的去除率。UV＋O2→O- O＊(活性氧)O O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對(duì)有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化效果，uv光氧催化設(shè)備對(duì)有機(jī)氣體及其它刺激性異味有馬到成功的鏟除效果。當(dāng)家苯的進(jìn)口濃度由60mg/m3升高至800mg/m3時(shí)，家苯的去除率由69%下降至14%。依據(jù)Lagmium-Hinsherwood動(dòng)力學(xué)方程，在氣固相光催化反響過(guò)程中，當(dāng)uv光氧催化設(shè)備反響物濃度很低時(shí)，uv光氧催化設(shè)備光催化降解率與濃度呈正比，光催化降解表現(xiàn)為一級(jí)動(dòng)力學(xué)方程；

跟著反響物的濃度添加，去除率略有所添加；而本試驗(yàn)所選用廢氣中為中低濃度的家苯，當(dāng)家苯的濃度在這一個(gè)范圍內(nèi)，uv光氧催化設(shè)備反響速率只與活性方位的表面反響速率常數(shù)有關(guān)，反響速率為一常數(shù)，光催化降解表現(xiàn)為零級(jí)反響動(dòng)力學(xué)。若反響物濃度過(guò)高，使得在反響時(shí)間內(nèi)很多的家苯分子未能與活性空位觸摸，而直接流出反響器，導(dǎo)致了反響去除率的下降，一起因?yàn)榧冶綕舛冗^(guò)高，反響不行完全，催化劑外表吸附了部分反響中心產(chǎn)品，占有了光催化反響的活性位也會(huì)導(dǎo)致光催化反響的功率下降。在這些研討中常見(jiàn)的UV光催化劑主要是金屬氧化物或硫化物，例如：TiO2,ZnO,ZrO2，SnO2,WO3,CeO2,Fe2O3,Al2O3,ZnS和CdS(Hoffmannetal。