利用電解池原理在機(jī)械制品上沉積出附著良好的、但性能和基體材料不同的金屬覆層的技術(shù)。電鍍的基本過程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。電鍍層比熱浸層均勻，一般都較薄，從幾個(gè)微米到幾十微米不等。通過電鍍，可以在機(jī)械制品上獲得裝飾保護(hù)性和各種功能性的表面層，還可以修復(fù)磨損和加工失誤的工件。此外，依各種電鍍需求還有不同的作用。舉例如下：1.鍍銅：打底用，增進(jìn)電鍍層附著能力，及抗蝕能力。（銅容易氧化，氧化后，銅綠不再導(dǎo)電，所以鍍銅產(chǎn)品一定要做銅保護(hù)）2.鍍鎳：打底用或做外觀，增進(jìn)抗蝕能力及耐磨能力，(其中化學(xué)鎳為現(xiàn)代工藝中耐磨能力超過鍍鉻)。（注意，許多電子產(chǎn)品，比如DIN頭，N頭，已經(jīng)不再使用鎳打底，主要是由于鎳有磁性，會(huì)影響到電性能里面的無源互調(diào)）

不同絡(luò)合劑對(duì)鍍層沉積速率、表面形狀、磷含量、耐腐蝕性等均有影響，因此選擇絡(luò)合劑不僅要使鍍液沉積速率快，而且要使鍍液穩(wěn)定性好，使用壽命長(zhǎng)，鍍層質(zhì)量好。2010年中國(guó)鎳金屬基礎(chǔ)儲(chǔ)量只有230萬噸左右，2010-2013年來中國(guó)鎳礦勘探?jīng)]有重大進(jìn)展，如果就按照這樣消費(fèi)下去的話，10年后中國(guó)的鎳礦資源將逐漸消耗殆盡。緩沖劑：由于在化學(xué)鍍鎳反應(yīng)過程中，副產(chǎn)物氫離子的產(chǎn)生，導(dǎo)致鍍液pH值會(huì)下降。試驗(yàn)表明，每消耗1mol的Ni2 同時(shí)生成3mol的H ，即就是在1L鍍液中，若消耗0.02mol的就會(huì)生成0.06mol的H 。所以為了穩(wěn)定鍍速和保證鍍層質(zhì)量，鍍液必須具備緩沖能力。緩沖劑能有效的穩(wěn)定鍍液的pH值，使鍍液的pH值維持在正常范圍內(nèi)。一般能夠用作PH值緩沖劑的為強(qiáng)堿弱酸鹽，如、硼砂、焦磷酸鉀等。

化學(xué)鍍工藝的形成與理論的完善也只有近20-30 年的歷史。2010年預(yù)計(jì)中國(guó)鎳消費(fèi)量將達(dá)到40萬噸/年以后，中國(guó)將成為世界的鎳消費(fèi)國(guó)。它的問世追溯于1946 年美國(guó)電化學(xué)協(xié)會(huì)（AES）第34 屆年會(huì)上Abneor 和Grace Riddell 報(bào)告了他們?cè)陔婂冩嚂r(shí)，為了避免惰性陽極發(fā)生氧化而在鍍槽內(nèi)加入還原劑次亞磷酸鈉后，發(fā)現(xiàn)陰極沉積的鎳量多于按照法拉第（M. Faraday）電解定律所計(jì)算的，一年以后的另一次年會(huì)上，他們首較地報(bào)告了利用還原劑還原鎳離子的化學(xué)方法鍍覆鎳時(shí)，溫度、