真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣？（1）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)針的孔和裂口，無揉曲龜裂現(xiàn)象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。（2）具有很好的金屬光澤，光反射率達到97%；且可以通過涂料處理形成彩色膜，其裝潢成效是鋁箔所不及的。（3）可采用屏蔽式進行部分鍍鋁，以獲得任意圖案或透明窗口，能看到內(nèi)裝物。



PVD鍍膜加工過程的均勻性分析：薄膜均勻性的概念：厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。


PVD鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統(tǒng)一名稱。所以對于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。PVD鍍膜加工過程的均勻性分析：化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。

pvd真空蒸發(fā)鍍膜：定義：pvd真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質(zhì)使之汽化，蒸發(fā)粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術(shù)。真空蒸發(fā)踱膜主要經(jīng)歷：1、采用各種能源方式轉(zhuǎn)換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能星的氣態(tài)粒子（原子、分子和原子團）；2、離開膜材表面，具有相當運動速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；3、到達基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長成固相薄膜；4、組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學鍵合。