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PVD真空鍍膜有三種方式,即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍。在其中,揮發(fā)物質(zhì)的分子被電子器件撞擊弱電解質(zhì)后,以正離子沉積在固態(tài)表面,稱之為離子鍍。這類技術(shù)是D.麥托阿斯特里于1963年明確提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與負(fù)極磁控濺射技術(shù)的融合。真空泵離子鍍膜又可分成電孤離子鍍、磁控濺射離子鍍、中空負(fù)極離子鍍膜三種方法。
改善思路:充分采用修正板的功能。改善對策:調(diào)整修正板,盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容,如果有二個(gè)蒸發(fā)源,可能的條件下,獨(dú)立使用各自的修正板,避免干擾。條件許可,采用行星夾具。傘片調(diào)整,對傘片調(diào)整可以先加工一個(gè)R基模(選擇強(qiáng)度較高的原材料),在基模上對傘片調(diào)整。為防止減少傘片變形,在傘片訂購時(shí)對傘片的厚度、原材料選擇要合適。
請問什么是PVD鍍膜?什么是PVD鍍膜機(jī)?PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個(gè)分類,相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來,真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是較快的,它已經(jīng)成為了當(dāng)代先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD鍍膜,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機(jī),指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。