水晶振蕩監(jiān)控：利用石英晶體振動頻率與其質(zhì)量成反比的原理工作的。但是石英監(jiān)控有一個不好之處就是當膜厚增加到厚度后，振動頻率不全然由于石英本身的特性使厚度與頻率之間有線性關(guān)系，此時須使用新的石英振蕩片。

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　真空鍍膜加工已有200年的歷史。在19世紀可以說一直是處于探索和預研階段。探索者的艱辛在此期間得到充分體現(xiàn)。1805年, 開始研究接觸角與表面能的關(guān)系(Young)。1817年, 透鏡上形成減反射膜(Fraunhofer)。1839年, 開始研究電弧蒸發(fā)(Hare)。開始研究真空濺射鍍膜(Grove；Pulker)。1857年, 在氮氣中蒸發(fā)金屬絲形成薄膜(Faraday；Conn)。 1874年, 報道制成等離子體聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年,薄膜的真空濺射沉積研究成功(Wright)。1880年, 碳氫化合物氣相熱解(Sawyer；Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸發(fā)(坩堝) (Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。開始研制形成減反射膜的化學工藝。研究成功四氯化鎢的氫還原法(CVD)； 膜厚的光學干涉測量法(Wiener)。

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②光密度法。光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。光密度沒有量綱單位，是一個對數(shù)值，通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。 光密度是入射光與透射光比值的對數(shù)或者說是光線透過率倒數(shù)的對數(shù)。

計算公式為： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常鍍鋁膜的光密度值為l～3(即光線透過率為0.10/0~10%)，數(shù)值越大鍍鋁層越厚。 光密度OD值、方阻值對應的鋁層厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和鋁層厚度對照表 光密度 OD值 電阻值 Ohm/Square方阻值 鋁層厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600