PVD鍍膜的具體原理是什么? 

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質或其反應產物沉積在工件上。

真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內進行的但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現的，真空電鍍蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。

簡短說說PVD真空鍍膜前后左右有哪些不一樣的地區(qū)：

   1.產品歷經鍍膜后，會在產品表面產生一種防護膜，能夠 合理抵御浸蝕，更為耐磨損，提高產品品質。

   2.鍍膜可以更改產品外型，可依據不一樣產品顧客人群電鍍的工藝不一樣顏色外型，考慮消費市場，如五金真空鍍膜18k金。

   3.鍍膜的膜層就越好，保色時間越長，像英利悅的真空泵厚金電鍍的工藝，保色時間可做到1-三年。

   4.鍍膜后由于品質及其使用期的增加，能為產品產生額外使用價值提高，有益于提升產品經濟效益。

 PVD真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍。在其中，揮發(fā)物質的分子被電子器件撞擊弱電解質后，以正離子沉積在固態(tài)表面，稱之為離子鍍。這類技術是D.麥托阿斯特里于1963年明確提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與負極磁控濺射技術的融合。真空泵離子鍍膜又可分成電孤離子鍍、磁控濺射離子鍍、中空負極離子鍍膜三種方法。

PVD真空鍍膜技術知識問答：什么是PVD？真空電鍍加工真空鍍膜技術。PVD是英文的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。請問PVD鍍膜的具體原理是什么?離子鍍膜(PVD鍍膜)技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質或其反應產物沉積在工件上。