在芯片制造領(lǐng)域，光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個(gè)形象的比喻，光刻機(jī)是芯片制造的魂，蝕刻機(jī)是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個(gè)東西都必須。

而在光刻機(jī)方面，與世界的7nm制程都相去甚遠(yuǎn)。不管三星、英特爾還是臺(tái)積電在芯片制程工藝方面如何去競(jìng)爭(zhēng)，但ASML終究是背后霸主，贏家，因?yàn)樗麄冋l都離不開他的EUV光刻機(jī)。而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還在路上，目前我國(guó)已經(jīng)能夠使用365納米波長(zhǎng)的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首臺(tái)分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)可以使用低成本光源，實(shí)現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

可以采用滿版印刷、刷涂、滾涂或噴涂的方式，對(duì)油墨涂層的均一性要求不是很高，只要能保證涂層能夠在蝕刻時(shí)對(duì)產(chǎn)品需保護(hù)部位得到充分的保護(hù)。

此工序和制作網(wǎng)板中的涂布工序差不多，只是制作網(wǎng)板是在網(wǎng)砂上涂感光油墨，而金屬蝕刻是直接在工件表面涂布

熱風(fēng)預(yù)烘干（30-40℃，10-15分）

目的只是防止曝光時(shí)感光油墨粘住菲霖。要在暗室中進(jìn)行操作。

曝光

高壓燈、碘燈、金屬鹵素?zé)簟?

時(shí)間：二十秒左右，抽真空；根據(jù)工件的精度要求適當(dāng)調(diào)整曝光時(shí)間。精度要求越高，曝光時(shí)間要適當(dāng)縮短

顯影

對(duì)于水光油墨，可采用1%碳酸鈉水溶液或直接用清水，溫度25-30℃，手工顯影或噴射顯影。

對(duì)于油光油墨，可采用進(jìn)行手工顯影或噴射顯影。

激光蝕刻機(jī)

相對(duì)于傳統(tǒng)的濕法蝕刻，激光蝕刻不直接接觸材料表面、CAD圖紙直寫，無須掩模，因此可靠性更強(qiáng)，良率更高，一致性更好，蝕刻線寬大小可調(diào)，圖形任意，該技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于觸摸屏，LCD，PDP，電子書，OLED等工業(yè)生產(chǎn)。而在其他應(yīng)用領(lǐng)域，尤其是一些更高要求的多層次材料的選擇性蝕刻，是其他傳統(tǒng)方法無法做到的。

金屬板材在經(jīng)蝕刻機(jī)蝕刻之前影響堿液除油效果的因素很多，很復(fù)雜，但主要的影響因素有堿性除油液中的各種成分的配比是否合理，除油液的溫度，被脫脂工件本身的材料及含油量。除油過程中有否采用強(qiáng)化措施以及所定的除油時(shí)間是否足夠等。

1、金屬材料的類型及表面狀態(tài)  

堿液除油中不同金屬材料的工件，應(yīng)有不同的除油配方機(jī)工藝參數(shù)。

2、除油液的各種成分及含量的影響。

3、除油液的操作溫度  

一般操作溫度不要太高。在保證除油效果和質(zhì)量的前提下，操作溫度越大越好?？梢岳锰砑由倭勘砻婊钚詣瑥?qiáng)化潤(rùn)濕、滲透及乳化過程，把溫度降低，又能保證除油的效果和質(zhì)量。

4、除油的強(qiáng)化措施

5、除油的時(shí)間    

除油時(shí)間取決于各種的操作條件，首先是堿液的直來那個(gè)越好，特別是剛開始使用的堿液出有效果好，所需的時(shí)間就短。

6、除油厚的清洗