小型自動(dòng)磁控濺射儀

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

1. 濺射室極限真空度：≤6.6×10-6 Pa

2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S

3. 系統(tǒng)從大氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa；

4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤5Pa

5. 濺射真空室1套，立式上開蓋結(jié)構(gòu)，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不銹鋼結(jié)構(gòu)，弧焊接，表面進(jìn)行電化學(xué)拋光，內(nèi)含防污內(nèi)襯，可內(nèi)烘烤到100～150℃，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封，腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)

6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套， 提供3塊測(cè)試靶材。鍍膜不均勻度≤5%

7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套，樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片，具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能，旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)?；訜釡囟龋菏覝亍?00°C連續(xù)可調(diào)，由熱電偶閉環(huán)反饋控制，加熱電源配備控溫表，控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示

8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套

9. 工作氣路1套，包含：100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路； DN16充氣閥、管路、接頭等2路；

10. 抽氣機(jī)組及閥門、管道 1套，包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源（680L/s ，德國普發(fā)Hipace700分子泵）；其作用能夠提供物品表面硬度從而提高化學(xué)穩(wěn)定性能，能夠延長物品使用周期。1臺(tái)機(jī)械泵（4L/S） ，1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥，機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套，CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)（用于復(fù)合分子泵與真空室隔離），節(jié)流閥1臺(tái)，DN40旁抽氣閥1臺(tái)，壓差式充氣閥1臺(tái)；管道采用不銹鋼三通及波紋管，

11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套，由方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理，機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾，四只腳輪，可固定，可移動(dòng)。

光纖磁控濺射鍍膜機(jī)組成

以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。

設(shè)備用途：

在光纖表面鍍制納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。配有陽極層離子源進(jìn)行清洗和輔助沉積，同時(shí)設(shè)備具有反濺射清洗功能，以提高膜的質(zhì)量和牢固度。專用樣品臺(tái)可鍍制多種型號(hào)光纖產(chǎn)品

系統(tǒng)主要由真空室、磁控靶、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。

雙靶磁控濺射鍍膜機(jī)的特點(diǎn)有哪些？

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產(chǎn)品特點(diǎn)

1：此款鍍膜儀配置有兩個(gè)靶槍：一個(gè)靶槍配套的是射頻電源，用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜；一個(gè)靶槍配套的是直流電源，用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜

2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應(yīng)用非常廣泛。

3：該鍍膜儀體積較小，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。