磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜優(yōu)勢

磁控濺射鍍膜機有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應(yīng)用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機殼、電話、無線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機殼、五金等。它的優(yōu)勢也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細(xì)膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機實現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。

連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設(shè)計，提供全套設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設(shè)計，提供全套鍍膜設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。

優(yōu)勢：設(shè)備模組化設(shè)計，易拆卸，維修，保養(yǎng)；高靶材利用率；高生產(chǎn)力及產(chǎn)品良率；環(huán)保制程無污染及環(huán)保問題；高客制化兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求；整廠輸出：單片式玻璃觸控面板整廠輸出；CIGS整廠輸出；整廠輸出；卷對卷ITO膜整廠輸出；太陽能整廠輸出；電致變色整廠輸出；

真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求

真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求 真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。 這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。眾所周，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當(dāng)大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴(yán)重，結(jié)果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。

真空鍍膜機如何安全操作

真空鍍膜機如何安全操作 真空系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，高溫真空泵油加系統(tǒng)的使用，真空鍍膜機稍有不慎燃燒的危險，所以在工作的過程中，必須嚴(yán)格操作過程中安裝和操作規(guī)范，要慎重，熱泵經(jīng)驗人是危險的，旋轉(zhuǎn)部件可能傷害人的危險，所以要注意在生產(chǎn)過程中不可接近的增壓泵和擴散泵，滑閥泵與羅茨泵的手術(shù)前護(hù)罩必須是完整的，人不可近。真空鍍膜機的設(shè)備卷繞系統(tǒng)可能是危險的傷害在操作過程中的人，真空鍍膜機所以在后掩蔽和清潔輥速度不太快，不超過30米/分鐘，速度不超過10米/分鐘的電影。