清洗是通過化學(xué)或(及)物理的方法將工件上的油污、銹跡、灰塵等去除干凈，確保工件獲得較好的涂層結(jié)合力和生產(chǎn)的順利進(jìn)行。清洗是PVD涂層前必不可少的一道工序，也是PVD涂層生產(chǎn)中zui重要的工藝，清洗出了問題，涂層生產(chǎn)不得不延遲、涂層過程可能中斷、或涂層結(jié)合力出現(xiàn)問題而導(dǎo)致客戶投訴和賠償，尤其是在涂層設(shè)備的技術(shù)能力不高的情況下，清洗出了問題，更容易發(fā)生上述風(fēng)險。有四個因素影響著清洗的質(zhì)量，分別為：清洗時間、化學(xué)藥劑、機(jī)械作用以及清洗液溫度，這四個因素之間也相互影響，一個因素的減弱，可以通過增強(qiáng)另外三個因素的作用來彌補(bǔ)，反之亦然。

②氮碳化鈦涂層（TiCN）：TiCN涂層是在TiN的基礎(chǔ)上添加碳元素，以提高涂層的硬度和低的摩擦系數(shù)用途：高速gang刀具，沖壓模具，成型模具。③氮鋁鈦（TiAlN）、氮鈦鋁AlTiN：俗稱：中鋁（Al:Ti=50:50）、高鋁（Al:Ti=67：33）以上，TiAlN/AlTiN涂層在加工過程中形成的氧化鋁涂層可以有效提高加工工具的高溫加工壽命，AlTiN涂層的抗高溫氧化比TiAlN要高100度左右。用途：硬質(zhì)合金工具（加工材料硬度低于HRC45時建議用TiAlN,加工材料硬度高于HRC45時建議使用AlTiN涂層），薄壁件沖壓模具(TiAlN)，壓鑄模具（AlTiN）。

主要工藝：目前，物理氣相沉積（PVD）技術(shù)主要包括真空陰極弧物理蒸發(fā)、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強(qiáng)濺射四種。①陰極弧物理蒸發(fā)（ARC）：真空陰極弧物理蒸發(fā)過程包括將高電流，低電壓的電弧激發(fā)于靶材之上，并產(chǎn)生持續(xù)的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發(fā)出來形成高度激發(fā)的離子束，在含有惰性氣體或反應(yīng)氣體的真空環(huán)境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發(fā)靶材的離化率在90%左右，所以與真空磁控離子濺射相比，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結(jié)合力。