電解拋光原理現(xiàn)在世界各界人士爭(zhēng)論很多，被大家公認(rèn)的主要為黏膜理論。該理論主要為：工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜流動(dòng)，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被整平的過程。

電解拋光電源應(yīng)用領(lǐng)域：有色金屬電解、不銹鋼電解、鋁型材、鋁箔電解、冶練、電加熱、稀有氣體提純、拋光、電解著色、金屬焊接切割、稀土電解等。

在不銹鋼產(chǎn)品光亮處理中,電解拋光與機(jī)械拋光和化學(xué)拋光相比,具有以下特點(diǎn):

1、電解拋光對(duì)母材不產(chǎn)生副作用,消除了在機(jī)械拋光中不可避免的導(dǎo)致金屬流動(dòng)層拜爾培層的出現(xiàn)。電解拋光系電化學(xué)溶解作用,無機(jī)械影響,不致引起金屬的變形或流動(dòng),不影響材料的機(jī)械性能,并使金屬具有真正潔凈的表面,光亮持久。

2、極大提高了表面的耐腐蝕性。由于電解拋光對(duì)元素的選擇性溶出,使得表面生成一層致密堅(jiān)固的富鉻固體透明膜,并形成等電勢(shì)表面,從而消除和減輕微電池腐蝕,使表面具有更好的耐腐蝕性,可應(yīng)用于腐蝕性較高的場(chǎng)合。

電解拋光能夠使生產(chǎn)的不銹鋼表面滿足等級(jí)的純凈和清潔度要求。工業(yè)方面的應(yīng)用實(shí)例說明了電解拋光對(duì)不同衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)的影響以及它的實(shí)際應(yīng)用。保證電解拋光結(jié)果的先決條件是材料、結(jié)構(gòu)技術(shù)和加工制造工藝的謹(jǐn)慎協(xié)調(diào)。

比機(jī)械拋光、化學(xué)拋光具有更光滑的微觀表面和反光率,使設(shè)備不粘壁、不掛料、易清洗,能徹底清除工件表面污垢和油脂。它在篩選過濾機(jī)械、石油化工反應(yīng)釜、衛(wèi)生及建筑裝飾等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。