電鍍鎳光亮劑發(fā)展至今,經(jīng)歷了四個(gè)階段

電鍍鎳光亮劑發(fā)展至今,經(jīng)歷了四個(gè)階段:階段為采用無(wú)機(jī)光亮劑,如鎘鹽等;第二階段為與糖精;第三階段為與環(huán)氧化合物的縮合物與糖精;第四階段為中間體復(fù)配的次級(jí)光亮劑與作為初級(jí)光亮劑的柔軟劑,即所謂第四代鍍鎳光亮劑。與糖精配合,能得到白亮鍍層,但整平性差,鍍層無(wú)“肉頭”。的還原產(chǎn)物1,4一和正丁烷等殘留在鍍液中,使鍍液性能惡化且很難用活性碳除去。于是開(kāi)發(fā)出將與、進(jìn)行催化縮合的BE、PK、791等產(chǎn)品,它們的整平性比好得多,大處理周期也較長(zhǎng)。

化學(xué)鍍鎳已進(jìn)入發(fā)展成熟期

化學(xué)鍍鎳已進(jìn)入發(fā)展成熟期，其目前的現(xiàn)狀可概括為：技術(shù)成熟、性能穩(wěn)定、功能多樣、用途廣泛。用化學(xué)鍍鎳沉積的鍍層，有一些不同于電沉積層的特性①以次磷酸鈉為還原劑時(shí)，由于有磷析出，發(fā)生磷與鎳的共沉積，所以化學(xué)鍍鎳層是磷呈彌散態(tài)的鎳磷合金鍍層，鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1％～l5％，控制磷含量得到的鎳磷鍍層致密、無(wú)孔，耐蝕性遠(yuǎn)優(yōu)于電鍍鎳。以硼氫化物或氨基為還原劑時(shí)，化學(xué)鍍鎳層是鎳硼合金鍍層，硼的含量為1％～7％。只有以肼作還原劑得到的鍍層才是純鎳層，含鎳量可達(dá)到99．5％以上。

熱鍍鋅方管的生產(chǎn)工藝較為簡(jiǎn)單

熱鍍鋅方管 熱鍍鋅方管：是在使用鋼板或者是鋼帶卷曲成型后焊接制成的方管，并在這種方管的基礎(chǔ)上將方管置于熱鍍鋅池中經(jīng)過(guò)一系列化學(xué)反應(yīng)后又形成的一種方管。熱鍍鋅方管的生產(chǎn)工藝較為簡(jiǎn)單，且生產(chǎn)效率是很高的，品種規(guī)格也多，這種方管所需要的設(shè)備和資金很少，適合小型鍍鋅方管廠(chǎng)家的生產(chǎn)。但是從強(qiáng)度上來(lái)說(shuō)這種鋼管的強(qiáng)度是遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于無(wú)縫方管的。 冷鍍鋅方管 而冷鍍鋅方管是在所用的方管上利用冷鍍鋅的原理來(lái)使方管具有防腐蝕的性能。

鎳鍍層的硬度比較高,可以提高制品表面的耐磨性

鎳鍍層的硬度比較高，可以提高制品表面的耐磨性，在印刷工業(yè)中常用鍍鎳層來(lái)提高鉛表面的硬度。由于金屬鎳具有較高的化學(xué)穩(wěn)定性，有些化工設(shè)備也常用較厚的鎮(zhèn)鍍層，以防止被介質(zhì)腐蝕。鍍鋅膜來(lái)厚度一般為60-80μm。根據(jù)不同器件的要求，來(lái)適當(dāng)?shù)恼{(diào)整厚度。鋅在干燥的空氣中幾乎不發(fā)生變化。在潮濕的空氣中，鋅表面會(huì)生成致密的堿式碳酸鋅源膜。鋅的標(biāo)準(zhǔn)電極電位為-0.76V，對(duì)鋼鐵知基體來(lái)說(shuō)，鋅鍍層道屬于陽(yáng)極性鍍層，它主要用于防止鋼鐵的腐蝕，其防護(hù)性能的優(yōu)劣與鍍層厚度關(guān)系甚大。鋅鍍層經(jīng)鈍化處理、染色或涂覆護(hù)光劑后，能顯著提高其防護(hù)性和裝飾性。