為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱(chēng)為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)膜層的反射率和透過(guò)率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強(qiáng)度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

隨著高科技及新興工業(yè)發(fā)展，物理氣相沉積技術(shù)出現(xiàn)了不少新的先進(jìn)的亮點(diǎn)，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術(shù)，大型矩形長(zhǎng)弧靶和濺射靶，非平衡磁控濺射靶，孿生靶技術(shù)，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術(shù)，條狀纖維織物卷繞鍍層技術(shù)等，使用的鍍層成套設(shè)備，向計(jì)算機(jī)全自動(dòng)，大型化工業(yè)規(guī)模方向發(fā)展。第二節(jié)真空蒸鍍(一)真空蒸鍍?cè)?1)真空蒸鍍是在真空條件下，將鍍料加熱并蒸發(fā)，使大量的原子、分子氣化并離開(kāi)液體鍍料或離開(kāi)固體鍍料表面(升華)。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

真空鍍膜對(duì)人的危害很小的。

2。電磁輻射很小。

3。真空泵排氣要直接到室外，做好空氣的排放環(huán)保。

4。鍍膜結(jié)束后，打開(kāi)真空室時(shí)，可能會(huì)有大量灰塵，注意別吸到呼吸道中。

5。不要長(zhǎng)時(shí)間觀察等離子體束，可能對(duì)yan睛有傷害。

6。如果需要加熱，注意別燙到。

7。注意工藝氣體不要xie露。

和其他行業(yè)相比，真空鍍膜屬于夠環(huán)保的了，危害很小?，F(xiàn)在很多的塑膠電鍍都是用真空鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)塑膠的金屬的質(zhì)感，在鍍之前要清潔好塑膠表面的灰塵和脫模劑，如果這些清潔不好，會(huì)導(dǎo)致鍍出來(lái)的產(chǎn)品會(huì)出現(xiàn)有點(diǎn)和有油窩的出現(xiàn) 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制