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正確處理研磨的運(yùn)動(dòng)軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中﹐一般要求﹕①工件相對(duì)研具的運(yùn)動(dòng)﹐要盡量保證工件上各點(diǎn)的研磨行程長度相近﹔②工件運(yùn)動(dòng)軌跡均勻地遍及整個(gè)研具表面﹐以利于研具均勻磨損﹔③運(yùn)動(dòng)軌跡的曲率變化要小﹐以保證工件運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)﹔④工件上任一點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱﹐研磨一般在低壓低速條件下進(jìn)行。
(3 )精拋
精拋主要使用鉆石研磨膏。若用拋光布輪混合鉆石研磨粉或研磨膏進(jìn)行研磨的話,則通常的研磨順序是 9 μ m (#1800 ) ~ 6 μ m (#3000 ) ~3 μ m (#8000 )。 9 μ m 的鉆石研磨膏和拋光布輪可用來去除 #1200 和 #1500 號(hào)砂紙留下的發(fā)狀磨痕。接著用粘氈和鉆石研磨膏進(jìn)行拋光,順序?yàn)?1 μ m (#14000 ) ~ 1/2 μ m (#60000 ) ~1/4 μ m (#100000 )。
精度要求在 1 μ m 以上(包括 1 μ m )的拋光工藝在模具加工車間中一個(gè)清潔的拋光室內(nèi)即可進(jìn)行。若進(jìn)行更加精密的拋光則必需一個(gè)潔凈的空間?;覊m、煙霧,頭皮屑和口水沫都有可能報(bào)廢數(shù)個(gè)小時(shí)工作后得到的高精密拋光表面。