靶材輸入電流及濺射時間可以控制，容易得到高精度的膜厚。較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排?；迮c膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續(xù)表面擴散而得到硬且致密的薄膜，同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結(jié)晶膜。薄膜形成初期成核密度高，可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜。靶材的壽命長，可長時間自動化連續(xù)生產(chǎn)。靶材可制作成各種形狀，配合機臺的特殊設(shè)計做更好的控制及比較有效率的生產(chǎn)。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預(yù)清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完后，放進真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。清洗是在真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進行的，放置在真空艙內(nèi)的離子槍將轟擊鏡片的表面（例如用亞離子），完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。

磁控濺射真空鍍膜機運作就是通過真空狀態(tài)下正交磁場是電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。

真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來進行控制，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就能控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。