1、光學鍍膜加工時薄膜出現(xiàn)孔洞原因：①蒸發(fā)舟內(nèi)鋁料太滿。解決方法：降低送鋁速度；提高蒸發(fā)舟電流。②真空室內(nèi)蒸發(fā)舟之間出現(xiàn)短路。解決方法：排除短路。③真空室內(nèi)雜質(zhì)飛濺

2、光學鍍膜加工時薄膜出現(xiàn)拉伸現(xiàn)象原因：①基材張力太大。解決方法：調(diào)節(jié)放卷、卷取張力控制系統(tǒng)，適當減少張力。②冷卻系統(tǒng)工作失常。解決方法：檢查冷卻系統(tǒng)，并排除故障。

真空鍍膜主要利用輝光放電將ya氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的亞氣離子化, 造成靶與亞氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電將亞氣離子撞擊靶材表面。

原來磁場強弱雖不好進行控制，但同時工件也在同時運轉(zhuǎn)，且是靶材原子多次沉積此案結(jié)束鍍膜工序，在一段時間內(nèi)雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個時間內(nèi)，磁場強的作用下在原來薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個膜層成膜后，均勻性還是比較不錯的。

亞氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性產(chǎn)生影響，其原理實際上和真空度差不多，因為亞氣的進入，真空室內(nèi)壓強會產(chǎn)生變化，均勻的壓強大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機膜厚度的均勻性。