濾光片特點(diǎn)：其主要特點(diǎn)是尺度可做得相當(dāng)大，薄膜濾光片，一般透過的波長(zhǎng)較長(zhǎng)，多用做紅外濾光片，后者是在一定片基，用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質(zhì)-金屬膜，或全介質(zhì)膜，構(gòu)成一種低級(jí)次的﹑多級(jí)串聯(lián)實(shí)心法布里與儀，膜層的材料﹑厚度和串聯(lián)方法的選擇，由所需要的中心波長(zhǎng)和透射帶寬λ確認(rèn)。

薄膜材料生長(zhǎng)于基板材料(如屏顯玻璃、光學(xué)玻璃等)之上，一般由金屬、非金屬、合金或化合物等材料經(jīng)過鍍膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、保護(hù)、防水防污、防靜電、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、防輻射、裝飾和復(fù)合等功能，并能夠提高產(chǎn)品質(zhì)量、環(huán)保、節(jié)能、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命改善原有性能等。目前，薄膜材料制備技術(shù)主要包括物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù).

又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學(xué)表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。

簡(jiǎn)單的增透膜是單層膜，它是鍍?cè)诠鈱W(xué)零件光學(xué)表面上的一層折射率較低的鍍膜。當(dāng)鍍膜的折射率低于基體材料的折射率時(shí),兩個(gè)界面的反射系數(shù)r1和r2具有相同的。

在理論上，不但鍍膜的生長(zhǎng)機(jī)理需要搞清光學(xué)鍍膜，而且鍍膜的光學(xué)理論，特別是應(yīng)用于極短波段的光學(xué)理論也有待進(jìn)一步完善和改進(jìn)。

光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。