【廣告】
所以,小編匯總了關(guān)于電鍍鎳鐵合金故障分析與處理的19條知識(shí),希望給大家一些參考。
1.鍍液中鉛雜質(zhì)對(duì)鍍層有何影響?如何處理?影響:少量鉛雜質(zhì)使零件在低電流密度區(qū)鍍層發(fā)花、變灰,還有可能出現(xiàn)黑斑,隨其含量增多,此現(xiàn)象會(huì)向高電流密度區(qū)延伸,使鍍層結(jié)合力不好。處理方法:①少量的鉛雜質(zhì)可在0.5A/din2的電流密度下進(jìn)行電解去除;②向鍍液中添加0.39/L苯亞磺酸鈉,使它生成白色的沉淀而除去。③由于這類鍍液中有較多的sOi一,所以過多的鉛雜質(zhì)能與soi一作用生成PbS04沉淀,因此鉛雜質(zhì)不會(huì)很高。
2.鉻雜質(zhì)會(huì)對(duì)鍍層有何影響?如何處理?影響:六價(jià)鉻進(jìn)入鎳鐵合金鍍液,會(huì)被Fe2 還原為Cr3 ,而Fe2 本身被氧化為Fe3 ,這樣,大部分的鉻以Cr3 的形式存在。當(dāng)Cr3 >0.59/L時(shí),就會(huì)導(dǎo)致鍍層粗糙或有毛刺。??處理方法:①鎳鐵合金鍍液中去除Crs 比鍍鎳溶液中困難,因?yàn)槿粲酶遬H值法處理,鎳鐵合金鍍液中的主鹽之一——Fez 也會(huì)形成氫氧化物沉淀而除去。故在一般情況下,少量的Cr3 用沖稀鍍液的方法來消除其影響;②只有當(dāng)Cr3 含量很高,可用高pH值法處理,把鉻和鐵一起除去,處理后用硫酸降低pH值,重新向鍍液中補(bǔ)充并調(diào)整鍍液成分,這樣雖然損失較大,但除鉻比較徹底。
3.鍍液中銅雜質(zhì)對(duì)鍍層有何影響?如何處理?影響:銅雜質(zhì)會(huì)引起鍍層粗糙,并使零件的低電流密度區(qū)鍍層發(fā)黑:處理方法:①少量的銅雜質(zhì)可將鍍液的pH值降低至2左右,然后用小電流密度電解去除;②稍多一些的銅雜質(zhì)可將鍍液的pH值降至1~2,然后用活化的鐵陽極頭子或鐵粉置換。
電鍍鎳缸分析方法A. 總鎳含量分析儀器: 1ml吸管 250ml錐形瓶 100ml量筒 50ml滴定管試劑: 0.1M EDTA標(biāo)準(zhǔn)液 紫脲酸銨指示劑 20%NH4OH溶液方法:取1ml樣液于250ml錐形瓶中,加DI水100ml。加入0.1g紫脲酸銨指示劑及20ml 20% NH4OH溶液。用0.1M EDTA標(biāo)準(zhǔn)液滴定至紫蘭色為終點(diǎn)。
鍍液受Cu2 污染,會(huì)使鍍件低電流密度區(qū)光亮度差,過多的Cu2 還會(huì)造成鍍層脆性增大及結(jié)合力不良的弊病。在光亮鍍鎳液中,銅離子濃度(Cu2 )應(yīng)小于0.01g/L。去除鍍液中的Cu2 有以下幾種方法。1.電解法即用低電流密度使鍍液中的Cu2 沉積在處理陰極板上的方法。用于處理的陰極板有波紋板、鋸齒板和平面板三種型式。波紋板在施加一定電流電解時(shí),陰極板上電流密度范圍較廣,波峰處電流密度較大,波谷處電流密度較小,所以能使Cu2 和其他金屬雜質(zhì)同時(shí)沉積,達(dá)到去除多種雜質(zhì)的目的。鋸齒形陰極板受效應(yīng)的影響,電解過程中Ni2 和Cu2 同時(shí)沉積,造成鍍液中鎳鹽損失增加。采用平板陰極可以使用不同的電流密度,達(dá)到有選擇地去除金屬雜質(zhì)的目的。據(jù)經(jīng)驗(yàn),電流密度為0.5A/dm2時(shí)有利于Cu2 在陰極析出。
不論采用哪種型式的陰極進(jìn)行電解處理都應(yīng)注意幾個(gè)問題:a.長(zhǎng)時(shí)間電解處理時(shí),應(yīng)定期清洗電解板,防止電解板上疏松鍍層脫落重新污染鍍液;b.采用陰極移動(dòng)或空氣攪拌可以提高處理效果;c.電解處理中使用的陽極板必須是的鎳陽極板,否則將影響處理效果,造成不必要的浪費(fèi)。2.化學(xué)沉淀劑法常見的有QT除銅劑,該沉淀劑主要成分是亞鐵,在鍍液中與Cu2 生成亞鐵沉淀,然后過濾出沉淀,達(dá)到去除銅雜質(zhì)的目的。此方法的缺點(diǎn)是需要進(jìn)行精密過濾,比較費(fèi)時(shí)。3.螯合劑法螯合劑一般為芳環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)的有機(jī)物,在鍍液中與Cu2 形成螯合物,由于在電解中,螯合物和Ni2 共沉積,可以使鍍液中銅離子濃度(Cu2 )不至于過高。這種方法簡(jiǎn)單易行,是目前處理鍍鎳液中雜質(zhì)較好和有效的方法。在應(yīng)用時(shí)必須選用的螯合劑,特別是要確保不能對(duì)鍍層產(chǎn)生不良的影響。