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何為光刻膠
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種具有光化學(xué)敏感性的功能性化學(xué)材料,由光引發(fā)劑、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體,其中,樹脂約占50%,單體約占35%。
它被稱為是電子化工材料中技術(shù)壁壘較高的材料之一,主要利用光化學(xué)反應(yīng)將所需要的微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上,被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路的加工制作,下游主要用于集成電路、面板和分立器件的微細加工,同時在 LED、光伏、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有廣泛應(yīng)用。
按照下游應(yīng)用,光刻膠可分為半導(dǎo)體用光刻膠、LCD用光刻膠、PCB(印刷線路板)用光刻膠等,其技術(shù)壁壘依次降低。
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光刻膠分類介紹
以下內(nèi)容由賽米萊德為您提供,今天我們來分享光刻膠的相關(guān)內(nèi)容,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助!
根據(jù)化學(xué)反應(yīng)機理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負性膠和正性膠。對某些溶劑可溶,但經(jīng)曝光后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠;反之,對某些溶劑不可溶,經(jīng)曝光后變成可溶的為正性膠。 從需求端來看,光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導(dǎo)體光刻膠的技術(shù)壁壘較高。
光刻膠產(chǎn)品種類多、專用性強,是典型的技術(shù)密集型行業(yè)。不同用途的光刻膠曝光光源、反應(yīng)機理、制造工藝、成膜特性、加工圖形線路的精度等性能要求不同,導(dǎo)致對于材料的溶解性、耐蝕刻性、耐熱性等要求不同。因此每一類光刻膠使用的原料在化學(xué)結(jié)構(gòu)、性能上都比較特殊,要求使用不同品質(zhì)等級的光刻膠專用化學(xué)品。
光刻膠的成分
樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì) ,是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。
感光劑:感光劑是光刻膠的核心部分,他對光形式的輻射能,特別在紫外區(qū)會發(fā)生反應(yīng)。曝光時間、光源所發(fā)射光線的強,度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的。
溶劑:光刻膠中容量較大的成分,感光劑和添加劑都是固體物質(zhì),為了方便均勻的涂覆,要將他們加入溶劑進行溶解,形成液態(tài)物質(zhì),并且使之具有良好的流動性,可以通過選擇方式涂布在waf er表面。
添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑。
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