在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

　　真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年，四五十年開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。

真空鍍膜廠家pvd真空鍍膜加工廠

PVD鍍膜膜層厚度 真空鍍膜加工

PVD鍍膜膜層厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm?～?5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm?～?1μm?，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

真空鍍膜廠家 表面處理工藝后鋁型材的特點

磨砂面料型材：磨砂面鋁型材避免了光亮的鋁合金型材在建筑裝飾中存在環(huán)境、條件下會形成光的干擾的缺點，它的表面如錦緞一樣細膩柔和，很受市場的青睞，但現(xiàn)有的磨砂材須克服表面砂粒不均勻，并能看到模紋的不足。

  真空電鍍原理

  電鍍廠需要一個向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽極構(gòu)成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同，但均含有提供金屬離子的主鹽，能絡(luò)合主鹽中金屬離子形成絡(luò)合物的絡(luò)合劑，用于穩(wěn)定溶液酸堿度的緩沖劑，陽極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細化劑、整平劑、潤濕劑、應(yīng)力消除劑和抑霧劑等)。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進行金屬沉積的過程。因此，這是一個包括液相傳質(zhì)、電化學(xué)反應(yīng)和電結(jié)晶等步驟的金屬電沉積過程。