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東城真空鍍膜公司來電咨詢 泰坦金屬制品有限公司

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發(fā)布時(shí)間:2021-07-31 19:03  






電鍍是指利用電解原理使金屬表面鍍上一層其他金屬薄膜,電鍍的應(yīng)用非常廣泛,主要應(yīng)用于:首飾行業(yè)、工業(yè)產(chǎn)品、機(jī)械配件、部件、零件、線管等方面。常見電鍍金、電鍍銀這兩種電鍍工藝相差不大,都廣泛應(yīng)用于首飾和工業(yè)方面。

雖然使用PVD鍍膜技術(shù)能夠鍍出的膜層,但是PVD鍍膜過程的成本其實(shí)并不高,它是一種非常高的表面處理方式,所以近年來PVD鍍膜技術(shù)發(fā)展得非常快。PVD鍍膜已經(jīng)成為五金行業(yè)表面處理的發(fā)展方向。


  真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支,在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。以便讓大伙兒更詳盡地掌握真空泵建筑涂料的運(yùn)用,今日的小規(guī)格關(guān)鍵點(diǎn)為您詳細(xì)介紹真空泵建筑涂料運(yùn)用的幾類關(guān)鍵方式,期待有用!

   真空泵鍍層的運(yùn)用,簡易的理解是在抽成真空中,選用揮發(fā)、無心插柳和接著的縮合反應(yīng)方式,在金屬、夾層玻璃、瓷器、半導(dǎo)體材料和塑膠構(gòu)件以及他涂有陶瓷膜或覆蓋層的物塊中。





真空鍍膜--磁控濺射鍍膜技能

一、磁控濺射鍍膜-濺射原理:

1.使chamber到達(dá)真空條件,一般控制在(2~5)E-5torr

2.chamber內(nèi)通入Ar,并啟動DC power

3.Ar發(fā)作電離:Ar ? Ar + e-

4.在電場效果下,(電子)會加快飛向anode(陽極)

5.在電場效果下,Ar 會加快飛向陰極的target(靶材),target粒子及二次電子被擊出,前者到達(dá)substrate(基片)表面進(jìn)行薄膜生長,后者被加快至陰極途中促成更多的電離。

6.筆直方向分布的磁力線將電子約束在靶材表面附近,延長其在等離子體中的運(yùn)動軌道,進(jìn)步它參與氣體分子磕碰和電離過程的幾率的效果。





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