真空鍍膜主要分為裝飾鍍和功能鍍膜兩大類。真空鍍膜在顏色多樣性、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、性能多樣性及應(yīng)用領(lǐng)域等方面不斷突破。真空鍍膜膜層的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)也日趨復(fù)雜。從傳統(tǒng)的單一膜層到多層的復(fù)合，提升了膜層的各項(xiàng)性能。應(yīng)用領(lǐng)域的突破，除了用于傳統(tǒng)手表、首飾、手機(jī)等用于裝飾外，PVD真空鍍膜在、航天航空、新能源汽車等多個(gè)領(lǐng)域得到迅速的發(fā)展。

真空鍍膜技術(shù)可使用的材料廣泛:可作為真空鍍膜材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬。真空鍍膜技術(shù)性能優(yōu)良:真空鍍膜厚度遠(yuǎn)小于電鍍層,但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好,孔隙率低,而且無(wú)氫脆現(xiàn)象,相對(duì)電鍍加工而言可以節(jié)約大量金屬材料。

待真空鍍膜電鍍的素材必須達(dá)到以上表面要求，才能進(jìn)爐真空爐體內(nèi)電鍍。一般情況下，素材表面在滿足使用的條件下，表面光潔度越好，膜層結(jié)合力越好，效果也越好。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。真空鍍膜技術(shù)可使用的材料廣泛:可作為真空鍍膜材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬.真空鍍膜加工還可以加工出多層結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜,滿足對(duì)涂層各種不同性能的需求.

摩擦系數(shù)較低，耐腐蝕性較好，耐磨性和抗沖擊性良好。陰極電弧離子鍍具有高的靶電離率和強(qiáng)的膜基鍵合力的優(yōu)點(diǎn)，但是在沉積過(guò)程中產(chǎn)生了許多大顆粒，這影響了膜的表面粗糙度。磁控濺射具有成膜粗糙度小，無(wú)大顆粒，光滑均勻的特點(diǎn)。然而，反應(yīng)磁控濺射具有高反應(yīng)性氣體或金屬靶的電離率，并且所獲得的膜往往具有許多空隙和缺陷，這傾向于導(dǎo)致不充分和致密的膜結(jié)構(gòu)和差的耐腐蝕性。目前，兩種技術(shù)主要用于去除大顆粒污染。第二種是在運(yùn)輸過(guò)程中對(duì)液體顆粒進(jìn)行磁過(guò)濾。過(guò)濾陰極真空電弧沉積是一種磁場(chǎng)，引導(dǎo)等離子體繞過(guò)障礙物，而大顆粒由于電中性而與障礙物碰撞，從而去除大顆粒并避開(kāi)薄膜。