淺浮雕與高浮雕主要應用的方面、起位、形體壓縮方面有區(qū)別。

1、主要應用反面。

多見于筆筒、香筒，壽山石雕刻中也有采用高浮雕。

淺浮雕這種技法流行于清代晚期，在刻字等方面尤為常見。

2、起位。

淺浮雕起位較低，平面感較強。

高浮雕由于起位較高、較厚。

3、形體壓縮。

高浮雕對形體壓縮程度較小。

淺浮雕形體壓縮較大，更大程度地接近于繪畫形式。

隨著浮雕技藝的不斷發(fā)展，依據(jù)雕刻的深淺程度浮雕漸漸發(fā)展為“高浮雕”和“淺浮雕”兩類。高浮雕是介于圓雕和薄意之間的技藝特性。高浮雕技法起位較高、較厚，形體壓縮程度較小，因此其空間構(gòu)造和塑造特征更接近于圓雕，甚至部分手法完全采用圓雕的處理方式;薄意創(chuàng)作講求中國畫理，筆墨韻趣，“自以刀筆寫意為尚”，與之相比，高浮雕創(chuàng)作注重近景、中景、遠景的國畫構(gòu)圖關系，重在追求構(gòu)圖的立體效果。因此，在塑造空間感方面，高浮雕比薄意直接一些，而同圓雕相比，它又趨于平面化。高浮雕主要依循原石形體的凹凸起伏而因勢造型，因地制宜地施展不同的技藝手法，在原石自然美的基礎上挖掘出其獨特的藝術(shù)價值。





高浮雕的因材施藝、因色取巧，在創(chuàng)作過程中至關重要。我們說，“一相抵九工”就是在考慮雕刻一塊石頭時要根據(jù)石頭的形狀、色彩進行構(gòu)思布局，以求得的藝術(shù)效果，一塊好的石頭用于創(chuàng)作，得會取舍。創(chuàng)作一件好的藝術(shù)品，同樣少不了一塊合適的石頭高浮雕創(chuàng)作步：選石審石。現(xiàn)代大型浮雕作品對構(gòu)圖空間和面層次都十分講究，景物的過疏過密都能降低作品的藝術(shù)品位。正如大部分藝人認為的，浮雕相石過程中，設計畫面重中之重。在完成步審石設計高浮雕創(chuàng)作第二步：墨繪勒線。墨繪勒線通常是先在紙上勒出要雕刻的石料的形狀，然后在這個形狀里面畫出設計的圖稿，再依照圖稿繪到石頭上。高浮雕創(chuàng)作第三步：鏟地分層。鏟地就是將所要表現(xiàn)的景物分出層次來。鏟地中，鏟除畫面空余的部位是用平口卡鑿，深度應該以顯露出里層的石色為好。將大面積的底地鏟平以后，接下來就要剔除景物間的細小空隙，這就要用到小鉆頭或者小手鑿。高浮雕創(chuàng)作第四步：雕刻磨光。在完成鏟地以后，藝人就要用小鏟刀和手鑿來雕刻景物。在雕刻過程中，由于比較講究近景與遠景之間的關系和關系，為了形成視覺上的變化，讓人感受到石雕的天然，就要根據(jù)景物分布的大小與前后的不同要求，雕刻的厚度有所變化，厚薄不一。以上過程都完成以后，后一步再進行磨光。