物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點。

廣泛用于機械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。

沉積膜層主要指依靠電能、動能或熱能，將成膜原子、分子或離子輸送至基體表面，進而發(fā)生凝聚形成的膜層。一般而言，形成的涂層化學(xué)成分多樣，可以根據(jù)需求和應(yīng)用不同選擇無機或有機成分甚至金屬涂層。由于加工方法的多樣性和差異性，形成的沉積膜層與基體的結(jié)合強度變化也很大。目前形成沉積膜層的方法主要包括噴涂（spraying）、氣相沉積（vapor deition）、溶膠-凝膠法（sol-gel）以及仿生沉積（biomimetic）等。

氧 化

金屬中的氧化多為陽極氧化。為了克服鋁合金表面硬度、耐磨損性等方面的缺陷，擴大應(yīng)用范圍，延長使用壽命，表面處理技術(shù)成為鋁合金使用中不可缺少的一環(huán)，而陽極氧化技術(shù)是目前應(yīng)用最廣且最成功的。比如：鋁及其合金在相應(yīng)的電解液和特定的工藝條件下，由于外加電流的作用下，在鋁制品（陽極）上形成一層氧化膜的過程。

除陽極氧化外，還有一種化學(xué)氧化，無需通電，只需在浸泡，是一種純化學(xué)反應(yīng)?；瘜W(xué)氧化后的金屬耐磨性沒有陽極氧化好，但是導(dǎo)電性能較好。

除以上幾種常見的基礎(chǔ)金屬處理工藝外，還有一系列根據(jù)產(chǎn)品需求來做處理的工藝，如：金屬表面著色、烤漆等。不同的技術(shù)對金屬的性能改變各有不同，但最終都是使五金配件更為和耐用。