隨著工業(yè)化的進(jìn)程和發(fā)展，真空爐在模具生產(chǎn)中發(fā)揮著不可替代的作用，主要用于陶瓷燒成、真空冶煉、電真空零件除氣、退火、金屬件的釬焊，以及陶瓷-金屬封接等。 真空爐的真空熱處理幾乎可實(shí)現(xiàn)全部熱處理工藝，如淬火、退火、回火、滲碳、氮化，在淬火工藝中可實(shí)現(xiàn)氣淬、油淬、硝鹽淬火、水淬等，還可以進(jìn)行真空釬焊、燒結(jié)、表面處理等。真空爐熱，可實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫，可實(shí)現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。

真空爐中真空壓力表的主要特點(diǎn)

真空壓力表是利用氣體的壓力差變化所引起的彈性元件機(jī)械變形來測量壓力的。根據(jù)所采用的彈性元件不聽，把真空壓力表分成三種類型，即彈簧管式、薄膜式和膜盒式，真空壓力表主要特點(diǎn)如下：

（1）性能穩(wěn)定，測量精度較高，反應(yīng)速度較快。

（2）屬真空計(jì)，精度0.5級以上的可作為標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)使用。

（3）測量的是總壓力，包括氣體和蒸汽的壓力。

（4）測量的結(jié)果與氣體種類，成分及其性質(zhì)無關(guān)。

（5）測量過程中，真空計(jì)本身吸氣和放氣很小，不會(huì)對被測氣氛產(chǎn)生影響。

（6）真空計(jì)內(nèi)部沒有高溫部件，不會(huì)使油蒸氣分解。

（7）若選用耐腐蝕材料制造，可測量腐蝕性氣體壓力。

（8）結(jié)構(gòu)牢固，而且便于密封和安裝。

（9）操作簡便，不需調(diào)整，但需要定期校驗(yàn)。

真空爐選要根據(jù)所要熱處理的零件化學(xué)成分和加熱溫度完成須滿意金屬氧化物與平衡分。解壓的聯(lián)系而且要考慮必定的地步，不要尋求高的真空度，真空度過高不只會(huì)形成合金元素的蒸發(fā)，而且會(huì)形成設(shè)備的裝備提高出資費(fèi)用增加。

冷。卻方式：真空爐的冷。卻有油冷和氣冷?，F(xiàn)在首要以氣冷為主，由于氣冷對熱處理零件無任何污染和不。良影響，油冷有外表微滲碳問題對質(zhì)量有影響。處理后零件外表潔凈不需求清洗。所以在滿意冷。卻速度的條件下一般以氣冷淬火作為優(yōu)先。氣冷的冷。卻速度首要受氣壓、流速與氣流的方式和散布等要素的影響，在進(jìn)行挑選時(shí)要考慮。一般狀況氣壓高、流速大、冷。卻速度快，即冷。卻速度是直接遭到氣壓和流速的影響。別的氣冷時(shí)換熱器冷。卻水的流量巨細(xì)關(guān)于實(shí)踐冷。卻有顯著的影響。

加熱元件方式：真空爐加熱元件的方式和資料有必定的不同一般以板式和棒式為多資料為高質(zhì)量石墨。近年來CFC碳碳復(fù)合資料的呈現(xiàn)表現(xiàn)出較大的技術(shù)優(yōu)勢有替代石墨的趨勢。相同功率的狀況下CFC資料厚度薄相對蓄熱小有利于進(jìn)步冷。卻速度。

功用：置辦爐子要考慮工藝的通用性即淬火回火運(yùn)用溫度規(guī)模要寬。特別是處理高合金鋼回火溫度較高而且淬火后不出爐直接進(jìn)行回火非常便利。

控制系統(tǒng)：控制系統(tǒng)是真空加熱爐的中心部分確保其可靠性和完善性及其重要。適當(dāng)好有監(jiān)控和毛病顯現(xiàn)、記載功用關(guān)于進(jìn)口設(shè)備需求裝備長途監(jiān)控功用這樣能夠確保毛病處理的及時(shí)性削減必定的修理費(fèi)用。

真空爐是用于真空環(huán)境中進(jìn)行加熱的設(shè)備，雖然在真空環(huán)境中使用，但是也會(huì)產(chǎn)生很多的積垢垃圾，這就需要經(jīng)常的進(jìn)行清灰除塵，注意真空爐的維修維護(hù)。真空爐即在爐腔這一特定空間內(nèi)利用真空系統(tǒng)（由真空泵、真空測量裝置、真空閥門等元件經(jīng)過精心組裝而成）將爐腔內(nèi)部分物質(zhì)排出，使?fàn)t腔內(nèi)壓強(qiáng)小于一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，爐腔內(nèi)空間從而實(shí)現(xiàn)真空狀態(tài)，這就是真空爐。碳化硅反應(yīng)燒結(jié)爐主要用于反應(yīng)燒結(jié)碳化硅、氮化硅結(jié)合碳化硅的真空燒結(jié)行業(yè)。被廣泛應(yīng)用于、衛(wèi)生及建筑陶瓷、航空航天、冶金、化工、機(jī)械、汽車等領(lǐng)域。