離子鍍膜設備的操作規(guī)范是怎樣的?

離子鍍膜設備的操作規(guī)范是怎樣的？ 1、設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T6070的規(guī)定。 2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。 3、如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱 4、設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。 5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。 6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。 7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。 8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些 下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積. 現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點. 直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現象. 而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

真空鍍膜設備的工作離不開相應的監(jiān)測

真空鍍膜設備的工作離不開相應的監(jiān)測，那么如何監(jiān)測呢？下面一起來看看吧。 1.目視監(jiān)控使用雙眼監(jiān)控，因為薄膜在成長的過程中，因為干涉現象會有色彩改變，我們即是依據色彩改變來操控膜厚度的，此種辦法有必定的差錯，所以不是很，需求依托經歷。 2.定值監(jiān)控法此辦法使用停鍍點不在監(jiān)控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為中止鍍膜點。 3.水晶振動監(jiān)控使用石英晶體振動頻率與其質量成反比的原理工作的。可是石英監(jiān)控有一個欠好的地方即是當膜厚添加到必定厚度后，振動頻率不全然因為石英自身的特性使厚度與頻率之間有線性關系，此刻有必要使用新的石英振動片。 4.極值監(jiān)控法當膜厚度添加的時候其反射率和穿透率會跟著起改變，當反射率或穿透率走到極值點的時候，就能夠知道鍍膜之光學厚度ND是監(jiān)控波長（入）的四分之一的整倍數?？墒菢O值的辦法差錯對比大，因為當反射率或許透過率在極值鄰近改變很慢，亦即是膜厚ND添加許多，R/T才有改變。反映對比的方位在八分之一波利益。