正面說下膜層性能方面的差異：  1、膜層厚度：硬質(zhì)氧化一般膜層厚度＞15μｍ，過低達(dá)不到硬度的要求，而普通氧化厚度則相對較薄。  2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較平整，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙。在實際觀察操作時，有一點需要特別注意，即，采用數(shù)碼相機采集圖像時，復(fù)膜后的圖像色彩的豐富、明艷程度，必須以顯示器上觀察到的實際采集效果為準(zhǔn)拋光。  3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高，而硬質(zhì)氧化孔隙率低。  4、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主，而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。陽極氧化廠，陽極氧化工藝，陽極氧化檢測，金屬陽極氧化，鋁合金陽極氧化

原理是采用渦電流，并要求金屬非磁性且表面不導(dǎo)電，當(dāng)側(cè)頭與試樣接觸時，測頭產(chǎn)生高頻電流磁場，在基體金屬中會感應(yīng)出渦電流，此渦電流0產(chǎn)生的附加電磁場會改變測頭參數(shù)，而測頭參數(shù)的改變?nèi)Q于與氧化膜相關(guān)的測頭到基體的距離，然后經(jīng)芯片分析得到數(shù)值。完全不同于干涉膜成像技術(shù)（彩色金相技術(shù)中的Tintetching--alsocalledstainetchingorcoloretching）中的目測色彩變化的效果（比如紫色）。（GB/T4957-1994和ISO2360-1982）陽極氧化廠，陽極氧化工藝，陽極氧化檢測，金屬陽極氧化，鋁合金陽極氧化