鋁合金型材轉(zhuǎn)移.化學拋光后,鋁合金型材應該迅速轉(zhuǎn)移到水洗槽中進行水洗.因為附著在鋁合金型材上的化學拋光槽液十分黏滯,鋁合金型材出槽后溫度迅速冷卻,化學反應還在繼續(xù),氣體不斷逸出,含量很快下降,表面液體層的溶鋁量不斷升高,越來越偏離正常的化學拋光所必要的工藝條件.如果鋁合金型材轉(zhuǎn)移遲緩,就有可能出現(xiàn)轉(zhuǎn)移浸蝕等缺陷.

鋁及鋁合金的化學拋光。為獲得光亮的表面，必須嚴格控制拋光液xiao酸的含量。xiao酸含量過低，拋光速度慢且拋光后表面光澤性差;xiao酸含量過高，容易發(fā)生鱗狀腐蝕。lin酸濃度低時，不能獲得光亮的表面，為了防止溶液被稀釋，拋光前的零件表面應干燥。醋酸和liu酸可以抑制點狀腐蝕，使拋光表面均勻、細致。liu酸銨和尿素可以減少氧化氮的析出，并有助于改善拋光質(zhì)量。少量的銅離子可以防止過腐蝕，從而提高拋光表面的均勻性，但含量過高又會降低拋光表面的反光能力。鉻酐可以提高鋁鋅銅合金的拋光質(zhì)量，含鋅、銅絲高的強度鋁合金在不含鉻酐的拋光液中，難以獲得光亮的表面。

依據(jù)機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎(chǔ)理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。