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大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹
大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大規(guī)模集成電路廠(氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等),100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線(氣體種類包括NH3),發(fā)光二極管的磊晶工序線(氣體種類包括NH3)、5代以上液晶顯示器工廠(氣體種類包括4、3、NF3)、光纖(氣體種類包括SiCl4)、硅材料外延生產(chǎn)線(氣體種類包括HCL)等行業(yè)。氣體凈化系統(tǒng)根據(jù)需求采用常溫或者高溫吸附劑,電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件,出氣口配置微米過濾器,其氣體純化指標(biāo)達(dá)到各項(xiàng)雜質(zhì)含量小于1ppb的世界先進(jìn)水平。它們的投資規(guī)模巨大,采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備,用氣需求量大,對穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。
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試驗(yàn)室供氣現(xiàn)狀
目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統(tǒng)完成上述工作。同時,當(dāng)?shù)叵酪?guī)范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲槽放置在工作區(qū)外的指1定區(qū)域,然后將氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗(yàn)室內(nèi)。
但是考慮安全和效率因素,不考慮經(jīng)濟(jì)性因素,集中供氣系統(tǒng)是比較優(yōu)1秀的方式。并成為當(dāng)今試驗(yàn)室設(shè)備使用高純氣體的可靠連續(xù)的供應(yīng)源,氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗(yàn)室內(nèi),并可通過安裝在工作臺上的使用點(diǎn)二級減壓器方便地調(diào)節(jié)壓力和流量。
國內(nèi)比較老的試驗(yàn)室在使用氣體的時候大多是將氣瓶放在用氣點(diǎn)的旁邊,然后在氣瓶出口處安裝一個減壓器,然后直接通過紫銅管或四氟軟管連接到儀器上,如果一個試驗(yàn)室里有多個使用設(shè)備時,就會有很多氣瓶,同時有很多雜亂的管路,同時這些氣體不乏有毒氣體、強(qiáng)腐蝕氣體,以及氣瓶出口高壓等因素,使得這種方式在現(xiàn)實(shí)使用過程中是充滿危險性的。如需了解更多高純供氣系統(tǒng)的相關(guān)信息,歡迎關(guān)注艾明坷網(wǎng)站或撥打圖片上的電話詢。
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氦質(zhì)譜檢漏儀
真空檢漏的方法很多,氦質(zhì)譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。
漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進(jìn)入真空系統(tǒng)或容器中;
漏率(漏氣速率):是指單位時間內(nèi)通過漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量;
1小可檢漏率:是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率;
檢漏靈敏度:也叫有效靈敏度,指檢漏儀器在1佳工作狀態(tài)下能檢出的1小漏率;
反應(yīng)時間:也稱響應(yīng)時間,是指從檢漏方法開始實(shí)施(如噴射示漏氣體)到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時所需要的時間;
消除時間:是指從檢漏方法停止(如停止噴吹示漏氣體)到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時所需的時間;
漏孔堵塞現(xiàn)象:指由于真空檢漏作業(yè)操作不當(dāng)導(dǎo)致塵埃或液體堵塞漏孔,檢漏時似乎不漏氣,但一經(jīng)排氣就會出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象。
小流量氣體凈化系統(tǒng)
高純供氣系統(tǒng)主要應(yīng)用于鋼瓶氣、管道氣及氣體發(fā)生器等的高純連續(xù)供氣,應(yīng)用于超微量水、氧分析儀、氣相色譜儀、常壓離子質(zhì)譜儀等各類氣體分析儀器純化載氣或零點(diǎn)氣,也可用于超高純度氣體管道安裝施工中的吹掃氣體,更可以為半導(dǎo)體工藝設(shè)備提供超高純的工藝氣體。漏率(漏氣速率):是指單位時間內(nèi)通過漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量。
氣體凈化系統(tǒng)根據(jù)需求采用常溫或者高溫吸附劑,電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件,出氣口配置微米過濾器,其氣體純化指標(biāo)達(dá)到各項(xiàng)雜質(zhì)含量小于1ppb的世界先進(jìn)水平。
氣體配比儀采用質(zhì)量流量計(jì),電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件,雙卡套或者VCR氣體接頭。