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高純供氣系統(tǒng)價(jià)格常用解決方案 艾明坷公司

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發(fā)布時(shí)間:2021-10-26 03:24  






大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大規(guī)模集成電路廠(氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等),100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線(氣體種類包括NH3),發(fā)光二極管的磊晶工序線(氣體種類包括NH3)、5代以上液晶顯示器工廠(氣體種類包括4、3、NF3)、光纖(氣體種類包括SiCl4)、硅材料外延生產(chǎn)線(氣體種類包括HCL)等行業(yè)。特氣系統(tǒng)知識(shí)分享:一般混合氣體由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標(biāo)出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。它們的投資規(guī)模巨大,采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備,用氣需求量大,對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。

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試驗(yàn)室供氣需求

目前大多數(shù)試驗(yàn)室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質(zhì)譜儀、液相色譜質(zhì)譜儀、原子吸收分光光度計(jì)、原子熒光光度計(jì)、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質(zhì)譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃?xì)?,因此試?yàn)室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運(yùn)行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗(yàn)室中放置的分析儀器。⑥各種可燃?xì)怏w管道系統(tǒng)均應(yīng)設(shè)置能引入氮?dú)獾榷栊詺怏w的接口及相應(yīng)的檢測(cè)口,以便在可燃?xì)怏w供應(yīng)系統(tǒng)使用前后或檢修動(dòng)火前后對(duì)其系統(tǒng)進(jìn)行吹掃置換,但是惰性氣體吹掃接口在正常運(yùn)行中不能與氣體鋼瓶或惰性氣體管道相通,以避免影響氣體質(zhì)量。

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試驗(yàn)室供氣現(xiàn)狀

目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統(tǒng)完成上述工作。同時(shí),當(dāng)?shù)叵酪?guī)范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲(chǔ)槽放置在工作區(qū)外的指1定區(qū)域,然后將氣體通過(guò)管道系統(tǒng)輸送至試驗(yàn)室內(nèi)。

但是考慮安全和效率因素,不考慮經(jīng)濟(jì)性因素,集中供氣系統(tǒng)是比較優(yōu)1秀的方式。并成為當(dāng)今試驗(yàn)室設(shè)備使用高純氣體的可靠連續(xù)的供應(yīng)源,氣體通過(guò)管道系統(tǒng)輸送至試驗(yàn)室內(nèi),并可通過(guò)安裝在工作臺(tái)上的使用點(diǎn)二級(jí)減壓器方便地調(diào)節(jié)壓力和流量。

國(guó)內(nèi)比較老的試驗(yàn)室在使用氣體的時(shí)候大多是將氣瓶放在用氣點(diǎn)的旁邊,然后在氣瓶出口處安裝一個(gè)減壓器,然后直接通過(guò)紫銅管或四氟軟管連接到儀器上,如果一個(gè)試驗(yàn)室里有多個(gè)使用設(shè)備時(shí),就會(huì)有很多氣瓶,同時(shí)有很多雜亂的管路,同時(shí)這些氣體不乏有毒氣體、強(qiáng)腐蝕氣體,以及氣瓶出口高壓等因素,使得這種方式在現(xiàn)實(shí)使用過(guò)程中是充滿危險(xiǎn)性的。2、經(jīng)濟(jì)性:建一個(gè)集中的氣瓶間可以節(jié)省有限的試驗(yàn)室空間,更換氣瓶時(shí)不需要切斷氣體,保證氣體的連續(xù)供應(yīng)。



氦質(zhì)譜檢漏儀

真空檢漏的方法很多,氦質(zhì)譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過(guò)其進(jìn)入真空系統(tǒng)或容器中;

漏率(漏氣速率):是指單位時(shí)間內(nèi)通過(guò)漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量;

1小可檢漏率:是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測(cè)出來(lái)的1小漏率;

檢漏靈敏度:也叫有效靈敏度,指檢漏儀器在1佳工作狀態(tài)下能檢出的1小漏率;

反應(yīng)時(shí)間:也稱響應(yīng)時(shí)間,是指從檢漏方法開(kāi)始實(shí)施(如噴射示漏氣體)到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時(shí)所需要的時(shí)間;

消除時(shí)間:是指從檢漏方法停止(如停止噴吹示漏氣體)到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時(shí)所需的時(shí)間;

漏孔堵塞現(xiàn)象:指由于真空檢漏作業(yè)操作不當(dāng)導(dǎo)致塵埃或液體堵塞漏孔,檢漏時(shí)似乎不漏氣,但一經(jīng)排氣就會(huì)出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象。





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