化學(xué)拋光中往往同時(shí)產(chǎn)生氫氣，這是在拋光具有氫脆敏感性材料時(shí)必須注意的問(wèn)題。另外拋光液溫度高達(dá)100~200CC時(shí)，還會(huì)發(fā)生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響降到，就必須在適溫度范圍內(nèi)選擇盡可能短的拋光時(shí)間。

化學(xué)拋光與機(jī)械研磨拋光有本質(zhì)上的不同。

化學(xué)拋光是將被研磨面上的微小凸部與凹部相比較的情況下使其凸部?jī)?yōu)先溶解，改善金屬表面粗糙度，獲得平滑光亮表面的過(guò)程。

化學(xué)拋光工藝有哪些特點(diǎn)？

首先，化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，無(wú)需電源設(shè)備。其次，化學(xué)拋光工藝不受制件外形尺寸限制，拋光速度快，生產(chǎn)。因?yàn)檫@些原因，化學(xué)拋光工藝也使得加工成本低廉。

化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是：不需外加電源,可以處理形狀更為復(fù)雜的零件,生產(chǎn)等.但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量,一般略低于電解拋光,溶液的調(diào)整和再生也比較困難,往往拋光過(guò)程中會(huì)析出氧化氮等有害氣體。

近年來(lái)已開(kāi)始轉(zhuǎn)向用化學(xué)拋光或電化學(xué)拋光作為首飾品的中間或終加工工序。由于基體金屬大都為價(jià)格低廉的金屬材料，用拋光的方法除去基體表面的不平整比用昂貴的金屬鍍層來(lái)填平合算得多，這就為拋光技術(shù)的應(yīng)用敞開(kāi)了大門(mén)，其應(yīng)用領(lǐng)域?qū)㈦S著時(shí)間的推移而越來(lái)越廣。

　化學(xué)不銹鋼拋光溶液的基本組成包括腐蝕劑、氧化劑和水，腐蝕劑是主要成份，如果不銹鋼在溶液中溶解，拋光便不能進(jìn)行，氧化劑和添加劑可抑制過(guò)程，使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行，水對(duì)溶液濃度起調(diào)節(jié)作用，便于反應(yīng)產(chǎn)物的擴(kuò)散，不銹鋼化學(xué)拋光能否順利進(jìn)行，取決于上述成分的合理配合。