不銹鋼件等離子拋光加工

   1.加工區(qū):不銹鋼件的加工區(qū)域應(yīng)相對固定。不銹鋼件加工區(qū)的平臺應(yīng)采取隔離措施,如鋪上橡膠墊等。不銹鋼件加工區(qū)的定置管理、文明生產(chǎn)應(yīng)加強(qiáng),以避免對不銹鋼件的損傷與污染。

   2.下料:不銹鋼件的下料采用剪切或等離子切割、鋸切等。

   a.剪切:剪切時,應(yīng)與送進(jìn)支架隔離,落料斗也應(yīng)鋪以橡膠墊,避免劃傷。

   b.等離子切割:等離子切割后,割渣應(yīng)清理干凈。批量切割時,對于已完成的零件應(yīng)及時清理出現(xiàn)場,以避免割渣對工件的玷污。

   c.鋸切下料:鋸切下料時,夾緊應(yīng)加以膠皮保護(hù),鋸切后應(yīng)清理工件上的油污、殘渣等。

半自動、全自動環(huán)保等離子電漿拋光設(shè)備采用自動化控制,操作簡單,維護(hù)方便,減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學(xué)拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。

等離子拋光又稱為“納米拋光”，是目前行業(yè)廣為應(yīng)用的拋光工藝。采用液態(tài)電打磨原理，在特定的浴液中將工件置于陽極。在適溫環(huán)境下，溶液中產(chǎn)生能量巨大的等離子態(tài)，當(dāng)?shù)入x子與工件摩擦?xí)r，頃刻間會使物體達(dá)到表面光亮的效果，實現(xiàn)納米級的材料去除。

等離子拋光所產(chǎn)生的表面電流密度與液態(tài)電打磨相當(dāng)，但由倍亮拋光自主研發(fā)的等離子拋光技術(shù)，其材料去除速度為1μm/min，是液態(tài)電打磨的10-30倍。

我們研發(fā)并應(yīng)用無毒的拋光鹽來產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體，不僅獲取均勻一致的拋光效果，更避免了對人體有害的工作環(huán)境。低濃度的等離子液對環(huán)境友好，有效規(guī)避因污染環(huán)境帶來的經(jīng)濟(jì)損失。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學(xué)物質(zhì)。

等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。