電解拋光原理現(xiàn)在世界各界人士爭(zhēng)論很多，被大家公認(rèn)的主要為黏膜理論。該理論主要為：工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜流動(dòng)，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被整平的過(guò)程。

電解拋光電源應(yīng)用領(lǐng)域：有色金屬電解、不銹鋼電解、鋁型材、鋁箔電解、冶練、電加熱、稀有氣體提純、拋光、電解著色、金屬焊接切割、稀土電解等。

電解拋光所用的電解液可在有關(guān)手冊(cè)中查到。較為常用的鋼鐵材料電解液成分為：（質(zhì)量分?jǐn)?shù)為70%）50 mL，質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%的酒精800 mL、水150 mL。電解拋光時(shí)技術(shù)參數(shù)有：電流密度為3～60 A/cm2，電壓為30～50V，使用溫度為20～30℃，拋光時(shí)間為30～60 s即可。

不銹鋼電解拋光原理被大家公認(rèn)的主要為黏膜理論。該理論主要為：工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜流動(dòng)，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被整平的過(guò)程。

在電拋光過(guò)程中，在一定條件下，金屬陽(yáng)極的溶解速度大于陽(yáng)極溶解產(chǎn)物離開(kāi)陽(yáng)極表面向電解液深處擴(kuò)散的速度，于是溶解產(chǎn)物就在陽(yáng)極表面附近積累，使陽(yáng)極附近金屬鹽濃度不斷增加，形成一層電阻比較大的黏膜，并且此黏膜可以溶解在電解液中。

在金屬凹凸不平的表面上，此黏膜分布是不均勻的，在表面微凸處薄一些，而在表面微凹處厚一些。由于凸起處的黏膜薄，電阻小，因此電流密度大，氧氣析出多，故該處溶液的攪動(dòng)程度大，液體易于更新，因此凸起處的黏膜溶解較快。

而凹處的黏膜厚，電流密度也小，故對(duì)黏膜的溶解不利，因此處在黏膜的保護(hù)之下，溶解速度很慢。結(jié)果隨著電拋光時(shí)間的延續(xù)，陽(yáng)極表面上的凸起處逐漸被削平，整個(gè)表面變得平滑光潔。

?電解拋光肇慶不銹鋼化學(xué)拋光

電解拋光的效率要比機(jī)械加工效i率高，而且拋光后表面生成致密牢固的氧化膜，不會(huì)產(chǎn)生加工變質(zhì)層，也沒(méi)有殘余應(yīng)力，不受材料限制，生產(chǎn)中常被采用。

電解拋光有以下特點(diǎn)：

(1)小電流、大間隙。

(2)簡(jiǎn)單快捷。

(3)氧化膜起防腐保護(hù)作用。

(4)無(wú)加工硬化和殘余應(yīng)力。

電解拋光的結(jié)果易于再現(xiàn)，能進(jìn)行電解拋光的金屬和合金的種類(lèi)有限，工業(yè)上，主要是用于鋁及其合金和不銹鋼的拋光。