公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務！

在刻畫時，采用步進機刻畫(stepper)，其中有電子束和激光之分，激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫，邊緣起點5mm，與電子束相比，其弧形更逼真，線寬與間距更小。此后用特定溶劑洗去被照射或者未被照射的膠，電路圖就印到硅片上。光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有稱為中間掩膜，reticle作為單位譯為光柵)，用步進機重復將比例縮小到master maks上，應用到實際曝光中的為工作掩膜(working mask)，工作掩膜由master mask復i制過來。

光掩膜一般也稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。

作為半導體、液晶顯示器制造過程中轉(zhuǎn)移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導體制程中非常關(guān)鍵的一環(huán)。

在容柵電子光學微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。另一個，當施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時，光罩與光阻層會造成不確定性的間隙與間距，而導致光源的光學散射與繞射，從而導致曝i光的規(guī)格偏差，而且導致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴張，因此沒法制做出深奧長寬比的光阻構(gòu)造。

石英巖的原巖可以是：單礦物石英砂巖，含泥質(zhì)、鈣質(zhì)石英砂巖，膠體沉積的硅質(zhì)巖（包括陸源碎屑溶解再沉積的硅質(zhì)巖和與火山噴氣有關(guān)的硅質(zhì)巖）和深海蟲硅質(zhì)巖等。不同原巖形成的石英巖，可根據(jù)結(jié)構(gòu)、變晶程度、副產(chǎn)物、巖石共生組合及產(chǎn)狀等加以區(qū)分。